Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS450 #9269596 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON CS450 ist eine Photoresist-Ausrüstung für den Einsatz in industriellen Halbleiterherstellungsprozessen. TEL CS450 ist ein vollautomatisches System für die genaue, wiederholbare und zuverlässige Anwendung von Photoresist auf Wafern. Das Gerät kann beide positiven oder negativen Ton Photolack mit automatisierter Präzision verarbeiten. Die Maschine verwendet ein patentiertes Laser-Sensor-Set, das die Waferoberfläche abtastet und den Photolack in Schichten aufbringt, die eine vorbestimmte Gleichmäßigkeit in Dicke, Linienbreite und Breite aufweisen. Das Tool integriert eine Reihe fortschrittlicher Technologien. TOKYO ELECTRON CS 450 automatisiert das Aufbringen des Photolacks in drei verschiedenen Stufen; widerstehen Spinner, Laser-Schreiber und Temperaturregler. Der Resistspinner führt die anfängliche Applikationsphase durch, spinnt den Wafer und bringt den Photolack gleichmäßig und genau auf. Der Laserschreiber wendet das zu ätzende Muster auf die Oberfläche des Wafers an, dies geschieht mit einer Reihe von Lasern, die kohärentes Licht emittieren, um ein bestimmtes Muster zu zeichnen. Schließlich ist der Temperaturregler mit der Aufrechterhaltung einer stabilen Temperatur in der Kammer und über den Wafer beauftragt, um eine konsistente und wiederholbare Applikation des Photolacks zu gewährleisten. Um höchste Genauigkeit, Zuverlässigkeit und Gleichmäßigkeit während des Anwendungsprozesses zu gewährleisten, ist TEL/TOKYO ELECTRON CS 450 mit mehreren fortschrittlichen automatisierten Systemen ausgestattet. Dazu gehört die „Selbstbewertung“, die überprüft, ob alle Komponenten des Vermögenswertes vor jeder Operation korrekt funktionieren, sowie ein Auto-Feedback-Modell, das potenzielle Fehlerquellen erkennen und kompensieren kann. Darüber hinaus entfernen ausgeklügelte Filtersysteme vor Beginn jedes Prozesses Verunreinigungen aus der Luft. TOKYO ELECTRON CS450 ist eine bewährte und zuverlässige Ausrüstung, die bei der Schaffung von modernsten Nanotechnologie-Geräten eingesetzt wurde. Seine fortschrittlichen Technologien bieten eine effiziente und benutzerfreundliche Lösung für Photolackanwendungen bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen.