Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS450 #9269610 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON CS450 Photoresist-Verfahren ist ein fortschrittliches und robustes System, das bei der Herstellung integrierter Schaltungen verwendet wird. Im Kern befindet sich eine 3-stufige Abscheidung - Spin Coat, Immersion und Post Exposure Bake (PEB) - die zur Abscheidung von Photopolymerfilmen auf einem Halbleitersubstrat verwendet wird. Mit dieser Folie werden dann Schaltungsmuster auf das Substrat übertragen. TEL CS450 ist ein wirtschaftlicher Spin Coater, der sich durch einheitliche und präzise kontrollierbare Spin Coat-Dicken auszeichnet und eine zuverlässige Erhaltung des Musterlayouts ermöglicht. Außerdem soll sichergestellt werden, dass die optimalen Parameter für jede Materialart und jeden Auftrag eingestellt werden. Dies geschieht durch die Verwendung von vordefinierten Rezepturdateien, die auf jede bestimmte Größe wie Düsengröße, Stufentemperatur und Drehgeschwindigkeit zugeschnitten werden können. Die Kerntechnologie hinter TOKYO ELECTRON CS 450 ist sein Immersionsprozess. Der Photolackfilm wird mit einem kontrollierten Vakuum präzise auf das Substrat abgeschieden, was eine vollflächige Abdeckung und gleichbleibende Qualität ermöglicht. TEL CS 450 verwendet ein spezielles chemisches Lösungsmittel, das schnell verdampft und eine gleichmäßige Schicht Photolack auf der Oberfläche des Substrats hinterlässt. Während der Eintauchschritt gegebenenfalls weggelassen werden kann, wird durch seine Verwendung sichergestellt, dass das Photolackmuster auf das Substrat übertragen wird, ohne Fehler oder Beschädigungen zu hinterlassen. Die letzte Stufe des TOKYO ELECTRON CS450 Photoresist Prozesses ist die Post Exposure Bake (PEB). Dies ist ein entscheidender Schritt in der Photoresistverarbeitung, da sie die physikalischen, chemischen und morphologischen Eigenschaften des Films nach der Belichtung steuert. Die während dieses Prozesses eingestellten PEB-Temperatur- und relativen Feuchtigkeitsfaktoren werden optimiert, um sicherzustellen, dass der Fotolackfilm richtig und vollständig belichtet ist und über längere Betriebszeiten stabil und zuverlässig bleibt. Insgesamt ist das Photoresist-Verfahren TEL/TOKYO ELECTRON CS 450 ein äußerst zuverlässiges und wirtschaftliches System, das nachweislich Schaltungen mit gleichbleibender Qualität und hohen Ausbeuten herstellt. Der integrierte 3-stufige Abscheideprozess sorgt für vollständig kontrollierbare Spin-Coat-Dicken und sorgt für eine zuverlässige Erhaltung des Musterlayouts. Diese Kombination aus Präzision und Robustheit macht CS 450 zu einer idealen Wahl für jede Halbleiterherstellung.