Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS450 #9269618 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON CS450 Photoresist Equipment ist ein hochmodernes Photolithographiewerkzeug zur Halbleiterwaferherstellung. Das System besteht aus vier Hauptkomponenten: Photoresist Coater Module, Belichtungsmodul, Entwicklungsmodul und Stripping Module, die Photoresist-Beschichtung, Lithographiemustertransfer, Musterentwicklung bzw. Photoresist-Stripping durchführen. Die automatisierten Steuerungen des Geräts ermöglichen eine optimale Beschichtung von Photolack und gewährleisten eine gleichmäßige und wiederholbare Abdeckung. Mit der dedizierten Software können verschiedenste Ebenen verarbeitet und präzise verwaltet werden. Die anwendungsspezifischen Belichtungsmuster können von einfachen geometrischen Formen, Linien oder Kreisen bis hin zu anspruchsvollen Mikrostrukturen reichen. Durch die präzise Steuerung von Belichtungsparametern ist TEL CS450 in der Lage, ein fortschrittliches Musterdesign zu praktizieren. Das Photoresist Coater Modul besteht aus einer Reihe von Tanks, einem Spin Head und einem Spin Controller. Der Drehkopf und der Regler arbeiten zusammen, um sowohl die Drehgeschwindigkeit als auch die Beschleunigung genau zu steuern. Nach entsprechender Programmierung gibt der Regler den Photolack automatisch auf die Waferoberfläche aus und beschichtet die Oberfläche gleichmäßig, bevor der Lithographievorgang beginnt. Der Mechanismus sorgt auch für gleichmäßige Dicke und begrenzt mögliche Verschmutzungen. Das Expose Modul realisiert eine hochpräzise Vakuumkontaktausrichtung. Die Tracking-Maschine ähnelt einer Autofokus-Kamera und sorgt für minimale Auflösungsfehler und hohe Genauigkeit. Der Controller ermöglicht eine präzise Kontrolle der Dosis, Fokussierung, Ausrichtung, Unterexposition und Backen. Das Entwicklungsmodul besteht aus zwei Tanks, einem Waferhalter und einer Heizung. Eine integrierte Peripherieheizung erwärmt den Photolack und deaktiviert den Resistofen, um die gewünschten Entwicklungsergebnisse zu gewährleisten. Das Stripping-Modul verwendet eine Kombination aus HF-Plasma und Nassätzen, um Fotolack zu konturieren und zu entfernen. Kombiniert ermöglichen diese vier Prozesse eine hochgenaue und wiederholbare Übertragung von Mustern in Waferoberflächen. Durch die Steuerung und Verwaltung von Belichtungsparametern positioniert sich TOKYO ELECTRON CS 450 als High-End-Photoresist-Werkzeug für die Halbleiterscheibenherstellung.