Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS450 #9269619 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON CS450 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die hauptsächlich in der Leiterplatten- und Halbleiterherstellung verwendet wird. Es ist ein kompaktes System und ist in der Lage, feine Muster mit hoher Präzision zu produzieren. TEL CS450 ist mit einem ultraschnellen 266-mhz-RISC-Prozessor ausgestattet, der Verarbeitungsgeschwindigkeiten bis zu 300-mal schneller als ein normaler PC bietet. Dies ermöglicht eine Hochgeschwindigkeitsbildverarbeitung und -auflösung, die eine genaue und präzise Strukturierung ermöglicht. Es arbeitet mit einer Reihe von Wellenlängen wie UV und IR und verfügt über eine breite Palette von Chemikalien, um mehrere Anwendungen zu ermöglichen. Die Photolackeinheit besteht in der Regel aus drei Schritten. Zunächst wird ein optimiertes Muster mit CAD erzeugt. Zweitens wird der Photolack in einer Belichtungsvorrichtung mit dem genau gestalteten Muster belichtet. Schließlich wird der Resistentwickler verwendet, um den belichteten Abschnitt des Photolacks wegzuwaschen, wobei eine feine strukturierte Schicht zurückbleibt. Durch die Kombination von TOKYO ELECTRON CS 450 mit einem Vektorbelichtungsgerät kann die Photoresistmaschine eine schnelle und genaue Strukturierung erleichtern. Darüber hinaus verfügt TEL/TOKYO ELECTRON CS 450 über eine „Photo Improve“ -Funktion, mit der Benutzer Ausgangsbildparameter wie optische Ausrichtung anpassen können. Dies ermöglicht es Benutzern, Bildinformationen genauer zu steuern und die Ertragsrate weiter zu erhöhen. TEL CS 450 kann für eine breite Palette von präzisen Photolithographieverfahren, wie Halbleiterherstellung, TDK (Thin Film Device) Herstellung und LCD (Liquid Crystal Display) Panel Herstellung angewendet werden. Es ist auch anwendbar für neuere Projekte wie 3D-Logik-Chip-Architekturen, die High-Speed-Bildverarbeitung beinhalten Mit seiner großen Kompatibilität für verschiedene Materialien und Chemien, schnelle Verarbeitungsgeschwindigkeiten und verbesserte Mustergenauigkeit, CS 450 ist ein ausgezeichnetes Photoresist-Tool für die modernste Leiterplatten- und Halbleiterherstellung.