Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS450 #9269621 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON CS450
ID: 9269621
System CANON MPA 3000 SP SCR.
TEL/TOKYO ELECTRON CS450 Photoresist Equipment ist ein fortschrittliches Hochgeschwindigkeits-maskenloses bildgebendes System, das im Photolithographieverfahren für Halbleiter- und Leiterplattenanwendungen verwendet wird. Das Gerät verwendet einen Hochgeschwindigkeits-Abbildungslaser, um Muster auf photoresistbeschichteten Wafern oder Platten optisch zu belichten. Es ist in der Lage, hohen Durchsatz und Genauigkeit bei der komplexen Musterbildung, die den hohen Bedarf in der Elektronik- und Mikrofabrikationsindustrie erfüllt. Die Maschine umfasst eine ganze Reihe von motorisierten Positionierstufen und Steuerungssystemen, um eine genaue Steuerung und wiederholbare Positionierung zu gewährleisten. Der Wafer oder die Platine wird sicher in einem Vakuumfutter gehalten, das durch den Einsatz eines Reglers in Eingriff gebracht werden kann. Substrathomogenität und Vakuumniveau werden während des gesamten bildgebenden Prozesses überwacht, um eine hohe Präzision und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Der bildgebende Laser eliminiert die Notwendigkeit für Masken und Masken Herstellung Prozess macht das Werkzeug schneller und kostengünstiger. Der Einsatz des Lasers macht das Gut sowohl für die direkte Bildgebung als auch für indirekte Bildgebungstechniken geeignet. Für unterschiedliche Anwendungen kann ein breiter Wellenlängenbereich von UV- (191 - 397nm) und IR (820 - 1700 nm) Laserquellen verwendet werden. Das Modell wird auch mit Wafer- oder Brettreinigungsfähigkeit mit fortschrittlicher Nassverarbeitungstechnologie geliefert. Es umfasst eine vollautomatische Chemikalienmanagementausrüstung sowie eine programmierbare Steuerung, um chemische Lösungen aufzubrechen und zu übertragen und den Abgasstrom zu überwachen. TEL- CS450 können auf die spezifischen Anforderungen jedes Prozesses ausgelegt und automatisiert werden. Benutzer können Automatisierungsprogramme für eine beliebige Zeit konfigurieren, und die Fotobelichtung und -entwicklung können ohne manuelle Eingriffe in einem einzigen Lauf abgeschlossen werden. Die eingebauten Präzisionskontroll- und Überwachungsfunktionen sorgen für Genauigkeit und Wiederholbarkeit der bildgebenden Ergebnisse. Insgesamt ist das TOKYO ELECTRON CS 450 Photoresist System eine zuverlässige und effiziente Bildgebungsplattform, die für eine Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden kann. Es ist eine ideale Einheit, um komplexe Muster zu erstellen, die im Photolithographieverfahren für Halbleiter- oder Leiterplattenanwendungen verwendet werden können.
Es liegen noch keine Bewertungen vor