Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS450 #9269628 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON CS450
ID: 9269628
System CANON MPA 3000 With controller table.
TEL/TOKYO ELECTRON CS450 Photoresist Equipment ist ein halbautomatisches Abscheidungssystem zur Verwendung in Halbleiterherstellungsprozessen. Das Gerät wurde entwickelt, um die präzise Abscheidung von Photolackmaterialien mit kundenspezifischen, benutzerdefinierten Prozessen zu ermöglichen. Die Maschine besteht aus einem Controller-Modul mit integriertem Bedienpanel, einem Substratverarbeitungs-/Photoresist Handling-Modul, einem Vakuumabscheidungsmodul, einem optischen Ausrichtmodul und einem Detektormodul. Das Controller-Modul enthält eine Windows-basierte Softwaresteuerung, mit der Benutzer benutzerdefinierte Depositionsprofile definieren und speichern und die Werkzeugparameter überwachen können. Das Substratverarbeitungs-/Photoresist Handling Modul ist für die Substrathandhabung und Vorbehandlungsprozesse verantwortlich. Es enthält eine thermische Einheit und spezielle Kassetten zum Halten von Substraten. Das Vakuum-Abscheidungsmodul ist zum Aufbringen von Photolackmaterialien oder anderen Dünnschichtmaterialien auf die Substrate ausgelegt. Es verwendet eine niederdruckgesteuerte, membrangesteuerte Abscheidetechnik zur gleichmäßigen Dünnschichtabscheidung. Das optische Ausrichtungsmodul ermöglicht die Ausrichtung des Substrats in Bezug auf die Abscheidungsquelle. Dieses Modul umfasst eine Kamera zur Erfassung der Position des Substrats oder Wafers und eine bewegliche optische Ausrichteinrichtung zur präzisen Erfassung des Substrats. Schließlich misst das Detektormodul die Dicke von dünnen Schichten, die auf einem Probenwafer abgeschieden werden. Insgesamt ist TEL CS450 Photoresist Asset ein schlankes, kostengünstiges Modell zur Durchführung der Photoresist-Abscheidung in einer Vielzahl von Halbleiterherstellungsprozessen. Das Gerät verfügt über mehrere benutzerfreundliche Funktionen wie integrierte Prozesskontrolle, Vorbehandlung und Vakuumabscheidungskomponenten für die präzise Dünnschichtabscheidung. Darüber hinaus verfügt das System über ein optisches Ausrichtungsmodul, um die korrekte Ausrichtung von Substraten für eine gleichmäßige Filmabscheidung zu gewährleisten. Das Detektormodul sorgt für die korrekte Dicke der abgeschiedenen Photolackmaterialien. Kombiniert machen diese Eigenschaften TOKYO ELECTRON CS 450 zur idealen Einheit für die Dünnschichtabscheidung in Halbleiterherstellungsprozessen.
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