Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS450 #9352213 zu verkaufen

ID: 9352213
Weinlese: 1999
Systems, parts machines Glass size: 370 x 470 mm (2) Scrubbers (2) Bake ovens UV Box Main arm Extension unit 1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CS450 Photoresist Equipment ist eine fortschrittliche Lithographie-Plattform, die für die präzise und genaue Strukturierung von Dünnschicht- und Planarisierungsschichten entwickelt wurde. Das System ist in der Lage, hohe Durchsätze und hochauflösende Bildgebung für harte und weiche Photoresist-Anwendungen zu liefern. Die Plattform ist sowohl mit UV-Belichtung als auch mit Spin-Coater-Funktionen ausgestattet. Die UV-Belichtungseinheit ermöglicht es Benutzern, präzise Muster von 270nm bis 590nm Feature-Größen, während die Spin-Coater ermöglicht die präzise Abscheidung von Dünnschicht und planarisierenden Schichten. Diese Kombination von Funktionen liefert ausgezeichnete Musterübertragungsqualität. Die Prozesssteuerung wird durch eine Vielzahl von Hardwarekomponenten ermöglicht, darunter eine intelligente Steuerungsmaschine und ein Schichtsteuerungswerkzeug. Diese Komponenten arbeiten zusammen, um eine präzise und konsistente Prozesskontrolle zu gewährleisten, sodass das Asset zuverlässig einheitliche Ergebnisse bei minimaler Variation liefern kann. Das Modell verwendet fortschrittliche Visionserkennungstechnologie, um Funktionen beim Scannen von Substraten zu identifizieren und auszurichten. Dies gewährleistet eine genaue Ausrichtung während der Belichtung sowie eine hochpräzise Musterübertragung auf das Substrat während der Beschichtung. Es stellt auch sicher, dass die Ausrüstung immer mit maximaler Genauigkeit verarbeitet wird. Das Belichtungsblatt ist ebenfalls einstellbar und kann schnell gewechselt werden, um verschiedenen Substratgrößen und Belichtungsanforderungen gerecht zu werden. Auf diese Weise können Benutzer bei Bedarf schnell Änderungen an ihren Prozessen vornehmen. TEL CS450 Photoresist System ist eine fortschrittliche und zuverlässige Plattform für Lithographie und Dünnschichtabscheidung. Die Kombination von Hardware- und Softwarekomponenten des Geräts hilft, konsistente und genaue Ergebnisse für harte und weiche Photoresist-Anwendungen zu liefern. Seine Fähigkeit, zuverlässig genaue Muster mit minimaler Variation zu produzieren, sorgt für optimale Ausbeute und Leistung der Geräte.
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