Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS450 #9393333 zu verkaufen
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ID: 9393333
Weinlese: 1999
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1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CS450 ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die in der Halbleiterherstellung verwendet wird. TEL CS450 ist ideal, um sehr präzise physikalische, elektrische und optische Eigenschaften auf integrierten Schaltungen (IC) zu erreichen. Es ist ein vollautomatisches System, das Teile und Substrate schnell und gleichmäßig mit einer dünnen Schicht Photolack beschichtet. Der Photolack ist ein lichtempfindliches Material, das verwendet wird, um Muster auf der Oberfläche der IC-Geräte zu erzeugen. Es wird zunächst in einer gleichmäßigen dünnen Schicht aufgebracht, dann mit einer fotografischen Maske mit UV-Licht belichtet, die ein Lichtmuster auf dem Resist bildet. Der Resist wirkt mit dem Licht zusammen, indem er in den freigelegten Bereichen verhärtet wird. Alle freiliegenden Bereiche, die gehärtet werden, können dann weggewaschen werden, so dass das Muster der Maske zurückbleibt. TOKYO ELECTRON CS 450 kombiniert Fluorwasserstoff (HF) -Dampfabscheidung und Spin Coater-Technologien, um eine überlegene Dünnschicht-Adhäsion für Photoresist-Anwendungen bereitzustellen. Der Spin Coater wird auch verwendet, um Beschichtungen mit gleichmäßigen Dicken aufzutragen, so dass das Verfahren wiederholbare Ergebnisse zu erzielen. CS 450 Einheit umfasst eine periphere Steuerung, zentrale Steuerung und automatisierte vakuumbasierte chemische Liefermaschine. Die periphere Steuerung dient zur Steuerung der Automatik des Werkzeugs, während die zentrale Steuerung für die Steuerung der Gesamtoperationen zuständig ist. Die Chemikalienlieferung sorgt dafür, dass genaue Dosierungen von Chemikalien wie Entwickler, Aktivator und Entferner an das Substrat geliefert werden. CS450 verfügt über eine 10 „- und 12“ -Waferbearbeitungsfähigkeit mit einstellbarem Substrathalter. Das Modell kann eine Reihe von Wafergrößen verarbeiten, von 2 „bis 12“ Durchmesser. TEL/TOKYO ELECTRON CS 450 ermöglicht auch die Hochgeschwindigkeitsanwendung von Photolack mit seinem integrierten motorisierten Spin Coater. TEL CS 450 unterstützt mehrere Wafergrößen sowie die Möglichkeit, bis zu 24 Wafer gleichzeitig zu bearbeiten. Dies macht die Ausrüstung ideal für große Produktionszwecke. Darüber hinaus ist TOKYO ELECTRON CS450 mit seinen automatisierten Prozessen hochgradig konfigurierbar, die leicht verändert oder an spezifische Bedürfnisse angepasst werden können. Abschließend ist TEL/TOKYO ELECTRON CS450 ein automatisiertes Photoresist-System zur präzisen Musterbildung auf IC-Geräten. Es kombiniert fortschrittliche HF-Aufdampf- und Spin-Coater-Technologien mit einer vakuumbasierten chemischen Abgabeeinheit für überlegene Dünnschichthaftung und Gleichmäßigkeit. TEL CS450 unterstützt mehrere Wafergrößen und ist mit seinen automatisierten Prozessen für die Großserienfertigung hochgradig konfigurierbar.
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