Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS500 #9101357 zu verkaufen

ID: 9101357
Weinlese: 2001
PEP track system Wafer size: 370 x 470 2001 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CS500 Photoresist Equipment ist ein fortschrittliches Waferbearbeitungssystem zur Entwicklung einer Vielzahl von Photoresists, die in der Halbleiterindustrie verwendet werden. Das Gerät verfügt über fortschrittliche technologische Werkzeuge wie motorisiertes Wafer-Handling, Wafer-Leveler und Vakuum-Wafer-Rotation mit 40 ° Neigung. Es hat einen vollen Spektralbereich von 350-700 nm mit präziser Spektralsteuerung, die eine hohe Präzision in der Photolackbelichtung und -entwicklung ermöglicht. Die robuste Maschinenkonstruktion bietet einen hohen Durchsatz mit automatisiertem Prozessablaufmanagement, Wafererkennung, Temperaturmanagement und Dehnungssimulation. Konfigurationsoptionen ermöglichen die Integration zusätzlicher Lichtquellen (z.B. DUV, FUV oder POLAR) und modularer Komponenten (z.B. Bilderzeugungssysteme, Reflektometrie oder Massenspec). Das Tool sichert gleichbleibende Qualität aus verschiedenen Systemen, darunter InGaAs, GeSe, SiC und SiGe. Mit fortschrittlichen automatisierten Ausrichtungsfunktionen wie globaler Mehrpunktoptimierung, nichtlinearer Rasteroptimierung und anpassbaren Schrittfolgen bietet das Asset überlegene Präzision und Genauigkeit für die Photolackbelichtung und -entwicklung. Ausgestattet mit einer Vor-Ort-Stickstofflinie verfügt das Modell zudem über eine neuartige Stickstoffunterstützungstechnologie, die eine optimale Leistung ermöglicht. Diese stickstoffunterstützte Hochdruckbelichtung erzeugt eine verbesserte Haftung und verringerte Belastung des Photoresistfilms. Darüber hinaus bietet das Gerät Subschicht-Bildgebung und lokalisiertes Nachbelichtungsbacken mit CCD- oder MAM-sensiblem Rezept, was bei der Optimierung des Ätzprozesses hilft. Die sehr flexible, benutzerfreundliche Software von TEL CS500 unterstützt die Mustererkennung, die Selbstcharakterisierung und das anpassbare Job-Management. Es bietet die Möglichkeit, Jobs in verschiedenen Formaten zu verwalten, von GDSII über CDF und Xyce, sowie musterspezifische Operationen zu verfolgen. Abschließend ist TOKYO ELECTRON CS 500 Photoresist System eine fortschrittliche und robuste Waferbearbeitungseinheit, die für eine Reihe von Halbleiteranwendungen geeignet ist. Sein präziser Spektralbereich, die stickstoffunterstützte Hochdruckbelichtungstechnologie und die anpassbare Auftragsmanagementmaschine machen CS 500 hochgenau, zuverlässig und effizient.
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