Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS500 #9269632 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON CS500 ist eine hochmoderne Photoresist-Ausrüstung zur Herstellung hochpräziser integrierter Schaltungen und anderer tiefer Submikronstrukturen. Das System kombiniert die hohe Auflösung der lithographischen Optik mit großflächiger Handhabung und eingebauter Automatisierung, so dass der Anwender komplexe und leistungsstarke Schaltungsmuster effizient und zuverlässig erstellen kann. Das Herzstück des Gerätes ist die TEL-proprietäre Direktbeleuchtungsoptik, die eine überlegene Auflösung und Kontrast für die Abbildung von Photolackschichten bietet. Die Optik umfasst eine Scan-Masken-Projektionsmaschine (SMPS) zur Aufnahme von Musterformen, einen Karl Ruß MA65 Maskenausrichter mit Mikroskop, ein auf einer XY-Bühne montiertes binäres (X-Tal) Objektiv und ein telezentrisches Projektorobjektiv. Diese einzigartige Kombination optischer Komponenten liefert beispiellose Linewidth Roughness (LWR) -Werte im Bereich von 1 nm RMS. TEL CS500 ist gut ausgerüstet für die Handhabung und Automatisierung von Wafern, einschließlich eines vollen Servo-gesteuerten Wafer-Stapelwerkzeugs mit Antipartikelschutz und Präzisions-Wafer-Positionierern, um Parallelität und Seitenausrichtungsgenauigkeit zu gewährleisten. Damit ist sichergestellt, dass Wafer schnell und einfach von der bildgebenden Station exakt be- und entladen werden können. Das Asset verfügt auch über eine umfassende Suite von Software-Tools und Funktionen für die Steuerung und den Betrieb. Alle Parameter wie Belichtungsenergie, Spotgröße, Belichtungsgleichmäßigkeit, Prozesstemperatur und Maskenausrichtungsgenauigkeit können über die intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI) des Computers genau gesteuert werden. Voreingestellte Rezeptrezepte und benutzerdefinierte Prozesse können auf dem Modell zur schnellen Wende von Wafer-Chargen gespeichert werden. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON CS 500 eine hochentwickelte Ausrüstung mit fortschrittlichen Funktionen für die Produktion von hochanfordernden integrierten Schaltungen und anderen fortschrittlichen Photolackstrukturen. Seine zuverlässigen und genauen Bildgebungsfunktionen, kontinuierliche Automatisierung und umfassende Software-Suite machen es zur idealen Wahl für jede kommerzielle Photoresist-Produktionsumgebung.