Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS500 #9269638 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON CS500 Photoresist Equipment ist ein fortschrittliches Lithographiesystem, das anspruchsvolle Prozesse in der Halbleiterherstellung ermöglicht. Die Einheit dient dazu, Halbleiterscheiben hochgenau mit Photomasken zu strukturieren. TEL CS500 verfügt über eine Hochleistungs-Ausrichtmaschine, um eine optimale Genauigkeit und Geschwindigkeit bei der Chipherstellung zu gewährleisten. Es wurde entwickelt, um zuverlässige und gleichmäßige Muster auf Wafern hoher Dichte zu ermöglichen. Die Genauigkeit des Werkzeugs wird mit einer hochpräzisen Ausrichtstufe mit 10 Nanometer Auflösungsfähigkeit für eine 4 "Wafergröße gewährleistet. Das Asset verfügt auch über ein erweitertes Datensteuerungsmodell zum Verwalten von Wafer-Prozessinformationen. Es kommuniziert mit der Hauptsteuerungsausrüstung, um genaue und vorhersehbare Leistung zu gewährleisten. Es verfügt auch über ein hochauflösendes digitales Display mit einem grafischen Maskeneditor, der eine visuelle Inspektion des Maskenmusterprozesses ermöglicht. TOKYO ELECTRON CS 500 verfügt zudem über einen fortschrittlichen magnetfeldfreien (MFF) Modus für eine ultrabreite Verarbeitungsreichweite. Dieser Modus ermöglicht die Erfassung hochwertiger Bilder durch Beseitigung bestimmter Verzerrungen, die durch leitende und permanentmagnetische Materialien verursacht werden können. Das System ist außerdem mit einer leistungsstarken Beleuchtungseinheit ausgestattet, die speziell für die gleichmäßige Beleuchtung des gesamten Wafers entwickelt wurde. Diese Gleichmäßigkeit ist wesentlich für die Realisierung von gemusterten Chip-Designs. Die Beleuchtungsmaschine verfügt über eine asymmetrische koaxiale Beleuchtung und die Verwendung einer Feldlinse zur Verbesserung der Effizienz. Schließlich bietet TEL/TOKYO ELECTRON CS 500 ein integriertes Prozessüberwachungswerkzeug, mit dem jeder gemusterte Wafer in Echtzeit überprüft werden kann. Diese Überwachungseinrichtung kann Probleme wie unerwünschte Verzerrungen im Maskendesign, CD und Fokusfehler erkennen und Prozessingenieuren sofortiges Feedback zum Herstellungsprozess geben. Insgesamt ist das Photoresist-Modell CS 500 eine fortschrittliche Lithographieausrüstung, die für eine anspruchsvolle Halbleiterverarbeitung entwickelt wurde. Es verfügt über eine breite Palette von Funktionen, um Genauigkeit, einheitliche Musterung und Prozessüberwachung sicherzustellen, so dass es ein unschätzbares Werkzeug für die Herstellung von hochwertigen, komplexen Chip-Designs.