Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS500 #9269644 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON CS500 Photoresist ist ein hochpräzises, modernes System, das für die Herstellung von Lithographie-Halbleitern entwickelt wurde. Durch den Einsatz fortschrittlicher Technologie ist das Gerät in der Lage, Photolack mit hoher Präzision genau und zuverlässig auf Halbleiterscheiben und Substraten abzuscheiden. Die Maschine verwendet eine Kombination aus lasergestützten Abscheideköpfen und einem Hochtemperaturofen, wodurch komplexe und komplizierte Muster mit ausgezeichneter Präzision hergestellt werden können. Durch die Verwendung des Hochtemperaturofens wird ein höherer Temperaturprozess verwendet, um den Abscheidungsprozess zu optimieren und sicherzustellen, dass der Photolack gleichmäßig ohne Lücken in der Abdeckung beschichtet wird. Zusätzlich kann durch die Auswahl verschiedener Laserstrahlen die Steuerung des Werkzeugs angepasst werden, um sicherzustellen, dass während der Photolackprozesse die höchste Gleichmäßigkeit und Genauigkeit erreicht wird. Kern der Anlage ist eine proprietäre Computersoftware, die den Abscheidungsprozess genau und zuverlässig steuert. Die Software bietet verschiedene Produktionsparameter, die angepasst werden können, um den Prozess fein abzustimmen, um verschiedene Kundenanforderungen zu erfüllen. Es bietet auch eine Feinabstimmung der Laserstrahlcharakteristiken und ermöglicht die Verarbeitung bestimmter Muster mit hoher Genauigkeit. Das Modell umfasst auch eine Patronenausrüstung mit austauschbaren Patronen, um eine schnelle und effiziente Umstellung von Produkttypen und Konzentrationen zu ermöglichen. Dies trägt dazu bei, dass die Photolackschichten ohne Abweichung von den geforderten Spezifikationen einfach und präzise wiedergegeben werden können. Dieses fortschrittliche System wird mit hochpräzisen und zuverlässigen Verarbeitungstechnologien hergestellt und ist für die Herstellung von Halbleiterscheiben und -substraten von wesentlicher Bedeutung. Es sorgt für höchste Perfektion und Gleichmäßigkeit zwischen den Substraten und übertrifft die Anforderungen selbst anspruchsvollster Anwendungen.