Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS500 #9269648 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON CS500 Photoresist Equipment ist ein integriertes, automatisiertes System, das den Herausforderungen der fortschrittlichen Halbleiterbauelementherstellung gerecht wird. TEL CS500 ist mit einem chemischen Streifenmodul ausgestattet, das eine hervorragende Bandleistung zur Entfernung der Photolackbeschichtung aus Halbleiterscheiben bietet. Das Gerät fungiert auch als automatisierte Spin-Entwicklungs- und Beschichtungseinheit, die für die Verarbeitung von Photolack- und Vorbeschichtungslösungen mit minimalem manuellen Eingriff ausgelegt ist. TOKYO ELECTRON CS 500 verfügt über einen einfachen, benutzerfreundlichen Touchscreen mit automatisierter Wafer-Dimensionierung und Schallmeldung für Prozessstörungen oder Sauberkeit. TEL/TOKYO ELECTRON CS 500 ist für hohe Produktionsrate und Flexibilität mit einer Vielzahl von Schaltkonfigurationen gebaut. Die Maschine bietet eine einfach zu bedienende, intuitive grafische Oberfläche für konfigurierbare Prozessschritte. Das Werkzeug bietet überlegene Genauigkeit für alle Anwendungen mit einem einzigartigen Cold-Path-Wärmetauscher, der Prozessgleichförmigkeit und ausgezeichnete Schichtdicke Gleichmäßigkeit über den gesamten Waferbereich gewährleistet. Darüber hinaus enthält CS 500 einen fortschrittlichen chemischen Abgabemodus, der alle Abgabeanforderungen einschließlich Overspray kontrollieren kann. TOKYO ELECTRON CS500 wurde entwickelt, um sowohl Spin Coating als auch Spray Coating Prozesse mit bis zu 300 fortschrittlichen Coat Rezepten durchzuführen. Es ist mit fehlerfreiem Mehrfachwafer-Handling für zerbrechliche Substrate und zuverlässiger Hochgenauigkeitspositionierung für erhöhte Prozessausbeute integriert. Die fortschrittliche Selbstdiagnose umfasst die umfassende Datenerfassung aller wesentlichen Modellkomponenten. Darüber hinaus bietet TEL CS 500 benutzerdefinierte Berichte zur automatisierten Datenanalyse an. CS500 ist eine äußerst zuverlässige Kammerumgebung, die die Waferqualität schützt, indem Sie eine Gasreinigungsanlage und Filtermodule nutzen, die die Atmosphäre reinigen und Waferoberflächen vor Verschmutzung schützen. Das fortschrittliche Lüftungssystem ist so konzipiert, dass Druckverstärkungen verhindert werden, die ein aufrechterhaltenes hohes Vakuumniveau ermöglichen. Darüber hinaus verwendet das Gerät einen fortschrittlichen Wafer-Handhabungsmechanismus, der eine vollständige Kantenkontaminationskontrolle mit Flexibilität zwischen automatischer Chargen- und Einzelwaferbearbeitung gewährleistet. TEL/TOKYO ELECTRON CS500 bietet auch anwenderwählbare gleichmäßige Schicht- und Trockentechnologie-Prozesse, um eine optimale Folieneinheitlichkeit und kristalline Perfektion zu erreichen. Darüber hinaus können Bediener Prozessparameter und Setup-Parameter so konfigurieren, dass sie den Prozessanforderungen optimal entsprechen. Dies sorgt für perfekte Waferausrichtung und maximale Schichtgleichförmigkeit. Insgesamt ist TEL CS500 Photoresist Machine für eine flexible Produktion mit überlegener Leistung ausgelegt. Das Tool bietet verbesserte Prozessgenauigkeit, Wiederholbarkeit und Durchsatz. Die intuitive Touchscreen-Oberfläche und die Selbstdiagnose sorgen für eine einfache Bedienung und effiziente Prozesssteuerung. TOKYO ELECTRON CS 500 ist eine ideale Lösung für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente.