Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS500 #9269650 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON CS500
ID: 9269650
System HITACHI LE-4000A Coater power box Developer filter Filter UPS.
TEL/TOKYO ELECTRON CS500 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die eine fortschrittliche Technik verwendet, um das Design auf einen Chip oder eine Leiterplatte zur Herstellung und Herstellung von Prozessen zu übertragen. TEL CS500 nutzt eine modulare, multifunktionale Plattform, mit der unterschiedlichste Größen für verschiedene Projekte hergestellt werden können. TOKYO ELECTRON CS 500 verwendet eine fortschrittliche Technologie namens Scanning Laser Technology, die ein Array von scannenden Laserköpfen verwendet, um sich genau auf das zu strukturierende Photolackmaterial zu konzentrieren. Die Laserköpfe emittieren gezielt Lichtpulse, die das Design auf das Photolackmaterial übertragen. Das System bietet eine hochauflösende Musterung in einer Vielzahl von Formaten und Formen, je nach den spezifischen Anforderungen des Projekts. Das Gerät enthält auch mehrere Funktionen wie Ausrichtung und Fokus Funktionen, um die Genauigkeit der Musterung und Unterstützung für eine Vielzahl von Photomasken zu gewährleisten. Die Maschine ermöglicht eine präzise Ausrichtung mit hoher Genauigkeit und Stabilität während des Belichtungsprozesses und ermöglicht eine effiziente und zuverlässige Übertragung der konstruierten Struktur auf das Photolackmaterial. Darüber hinaus verfügt CS 500 über eine hohe Automatisierung und liefert präzise, wiederholbare Ergebnisse für einen zuverlässigen Substrataufbereitungsprozess. Es bietet ausgezeichnete Wiederholbarkeit für Hochleistungs-Musterung und Produktherstellung. Schließlich ist TOKYO ELECTRON CS500 ein energieeffizientes Werkzeug, das im Vergleich zu anderen Photolacksystemen auf dem Markt erhebliche Kosteneinsparungen bietet. Es bietet auch einen fortschrittlichen Reinigungs- und Inspektionszyklus für gewünschte Leistung und Zuverlässigkeit. Insgesamt ist TEL/TOKYO ELECTRON CS 500 ein hocheffizienter, zuverlässiger und erschwinglicher Photoresist, der ein effizientes, wiederholbares Substrataufbereitungsverfahren bietet. Es sorgt für hohe Genauigkeit und Stabilität bei der Strukturierung und Belichtung und bietet erhebliche Energieeinsparungen und eine hohe Automatisierung.
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