Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS500 #9269702 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON CS500 ist eine Photoresist-Ausrüstung für hochpräzise Photolithographieanwendungen. Es hat einen kompakten Körper für eine einfache Installation in Stoffen und Reinräumen und ist in der Lage, Masken und Muster mit ausgezeichneter Wiederholbarkeit und Genauigkeit zu produzieren. TEL CS500 verwendet ein hochpräzises Stufen- und Abtastlasersystem, um die Bewegung von Substrat und Photoresist genau zu steuern. Die Stufe hat eine Wiederholbarkeit von 1 µm, während der Scanner Bewegungsmuster mit einer Genauigkeit von 0,03 µm wiederholen kann. Es ist für eine Vielzahl von Substraten konzipiert, darunter lichtempfindliches Glas, GaAs, Quarz und andere fortschrittliche Materialien. TOKYO ELECTRON CS 500 nutzt ein Vakuumfutter und eine elektrostatische Kapazität, um Substrate zu sichern und die Belichtung zu optimieren. Seine Optikeinheit ist darauf ausgelegt, Licht gleichmäßig zu verteilen und Intensitätsheterogenitätsfehler zu reduzieren. Die gesamte Maschine ist in der Lage, eine Vollmaske in Zeitrahmen von bis zu 10 Minuten zu belichten, und unterstützt auch Schritt-und-Wiederholung Belichtungsmuster und kontinuierliches Scannen für großflächige Masken. Photoresist, der mit CS 500 verwendet wird, wird genau vom Benutzer definiert, sodass Entwickler die Auflösung der von ihnen erzeugten Muster steuern können. Mit einem Belichtungsbereich von bis zu 17mJ/cm2 ist TOKYO ELECTRON CS500 für verschiedenste Anwendungen geeignet. Es ist in der Lage, Photomasken mit einem Durchmesser von bis zu 300 mm zu unterstützen und verfügt über ein offenes Architekturdesign, um zusätzliche Systeme in TEL/TOKYO ELECTRON CS 500 integrieren zu können. CS500 ist mit minimalen Wartungsanforderungen ausgelegt und für Fernüberwachung und -betrieb vernetzbar. Es ist in der Lage, mit anderen TEL-Lithographiesystemen zu kommunizieren, was eine bessere Kontrolle über Produktionszeiten und Arbeitsabläufe ermöglicht. TEL CS 500 ist ein zuverlässiges Photolackwerkzeug für hochpräzise Photolithographieanwendungen.