Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS500 #9269722 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON CS500 ist ein Photolacksystem, das in der Halbleiterindustrie zur Strukturierung, Ätzung und Resistverarbeitung eingesetzt wird. Die Maschine integriert zwei Teile, eine Graphic Work Station (GWS) und eine Central Processing Unit (CPU). Die GWS ist für alle grafischen Eingaben, Bildbearbeitungen und Ausgaben verantwortlich. Es enthält eine Maus und eine Tastatur für die Benutzeroberfläche und einen Bildschirm zum Anzeigen des Fortschritts der Operationen. Die CPU hingegen ist für die Steuerung und Koordination aller Vorgänge zuständig. Es besteht aus einem Host-Computer, Software und Peripheriegeräten. TEL CS500 verwendet eine breite Palette von bildgebenden Verfahren wie Photolithographie, Laminierung, Galvanotechnik, thermische Härtung und optische Bearbeitung. Seine Kerntechnologie ist eine modifizierte Version einer fotografischen Technik, die allgemein als Deep-UV-Photolithographie bekannt ist. Die Technik beinhaltet die Verwendung eines dicht fokussierten Strahls aus ultraviolettem Licht, um einen Photoresist zu belichten, der dann zu einem präzisen Muster auf der Zieloberfläche verarbeitet wird. TEL CS500allows für eine Vielzahl von Resisttypen, von Allzweckresistenten bis hin zu hochauflösenden Photoresists. Die Resistmaterialien werden in einer Reinraumumgebung platziert und dann von den Lasern des Systems freigelegt. Nach der Belichtung wird der Resist entwickelt, was zu einem Muster von Minutenmerkmalen führt, die auf der Zieloberfläche genau reproduziert werden können. TOKYO ELECTRON CS 500 verwendet mehrere erweiterte Funktionen wie dreidimensionalen Autofokus, programmierbare Selbstbelichtungen, programmierbare Belichtungsrampen und Multimusterausrichtung. Es bietet auch verschiedene Post-Exposure-Kontrollmodi, wie Post-Bake, Post-Development, Post-Application und Post-Etching. Dadurch wird sichergestellt, dass jeder Verfahrensschritt genau und präzise gesteuert wird. TEL/TOKYO ELECTRON CS 500 ist ein zuverlässiges, benutzerfreundliches und genaues Photolacksystem, das der Halbleiterindustrie eine effiziente Prozesssteuerung und hochwertige Muster bietet. Seine ausgeklügelten Eigenschaften und fortschrittliche Technologie macht es ideal für Präzisionsätzen und Widerstandsbearbeitung, so dass es eines der beliebtesten Photoresist-Systeme in der Industrie verwendet.