Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS500 #9269756 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON CS500
ID: 9269756
System HITACHI LE-4000A Mask cleaner Tank Heating system.
TEL/TOKYO ELECTRON CS500 ist eine fortschrittliche Photolackverarbeitungsanlage. Es ist in der Halbleiterindustrie für Photolithographieanwendungen weit verbreitet und ermöglicht die Herstellung verschiedener komplexer Strukturen und kritischer Komponenten. Der primäre Zweck dieses Systems ist es, Licht von einer Lichtquelle zu verwenden, um Muster auf ein Substratmaterial oder einen Photolack zu übertragen. Es wirkt, indem es das Substrat einer vorbestimmten Lichtintensität aussetzt, die eine chemische Reaktion im Resist auslöst und den Strukturierungsprozess einleitet. Um eine präzise Übertragung des Musters zu gewährleisten, ist TEL CS500 mit einer hochpräzisen, einstellbaren Laserstrahl-Ausrichteinheit ausgestattet. Es enthält auch eine Maschine, um die genauen Abmessungen von Mustern und deren Kanten zu messen, was eine möglichst genaue Musterdefinition ermöglicht. TOKYO ELECTRON CS 500 bietet auch vollautomatische Musterfunktionen mit einer dedizierten Benutzeroberfläche. Dies bietet eine praktische Lösung für diejenigen, die detaillierte und komplizierte Muster und Photoresists herstellen möchten, die sonst äußerst schwierig zu erreichen wären. Das Werkzeug bietet eine breite Palette von Resistmaterialien und ermöglicht Anwendungen in Bereichen wie Mikrolithographie, Dünnschichtabscheidung und Waferbonden. Darüber hinaus umfasst diese Komponente eine integrierte Kalibrierfunktion, die die genaue Messung der Resistschichtdicke und der Mustergröße gewährleistet. Es wird von einem leistungsstarken, energieeffizienten Motor angetrieben, der eine schnelle, präzise und wiederholbare Strukturierung gewährleistet. Zusätzlich gewährleistet ein vorkonfiguriertes Hardwaremodell jederzeit einen unterbrechungsfreien Betrieb. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON CS500 eine zuverlässige, innovative und fortschrittliche Photolackverarbeitungsanlage. Seine automatisierten Musterfunktionen, kombiniert mit der einstellbaren Laserstrahlausrichtung und integrierten Kalibrierfunktionen, bieten eine bequeme, genaue und effiziente Möglichkeit, komplizierte Muster und Fotoresists auf einer Vielzahl von Substratmaterialien zu erstellen.
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