Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS500 #9269768 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON CS500 ist ein Photoresist-Gerät für fortschrittliche Lithographie- und Maskierungsanwendungen. Es wurde speziell entwickelt, um den Anforderungen der modernsten Halbleiter- und Mikroelektronik-Fertigungsprozesse gerecht zu werden. TEL CS500 ermöglicht eine präzise und effiziente Abscheidung von Photolackschichten, mit denen leitende Wege für Elektronikbauelemente geschaffen werden können. Das System verwendet eine chemische Lösung, einen sogenannten Photoresist, der auf ein Substrat aufgebracht und gehärtet wird. Dieser Photolack dient später als ätzfeste Schicht, die die schnelle und präzise Strukturierung, Ätzung, Grpahik und Gestaltung elektronischer Bauteile erleichtert. TOKYO ELECTRON CS 500 verwendet eine Schatten- oder Bildmaskenprojektionseinheit, die es ermöglicht, verschiedene Dünnschichtmuster auf dem Substrat zu bedrucken. Die lichtempfindlichen Photoresists werden dann bestimmten Lichtwellenlängen ausgesetzt, während derer die Maskenfotoresists selektiv gehärtet werden. Diese Aushärtung des Photolacks dient als Schablone, die die Form des gewünschten Musters definiert. Darüber hinaus umfasst CS 500 modernste Vakuumtechnologien, um eine homogene Beschichtung und die Schaffung einheitlicher Muster zu gewährleisten. CS500 verfügt über automatisierte Steuerungen, die eine präzise Bedienung und Anpassung an das Kundenprodukt ermöglichen. Diese Bedienungsflexibilität ermöglicht ein schnelles Prototyping und die Optimierung verschiedener Fertigungsaufgaben, wodurch qualitativ hochwertige Bauteile zeitnah hergestellt werden können. TEL/TOKYO ELECTRON CS 500 hat eine Genauigkeitsrate von +/- 0,2 Mikrometer und kann Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 400 mm handhaben. Darüber hinaus verfügt TOKYO ELECTRON CS500 über eine überlegene Zuverlässigkeit und niedrige Betriebskosten, und seine Hochdurchsatzmechanik führt zu hohen Ausbeute und Wiederholbarkeit. Zusammenfassend ist TEL CS 500 eine fortschrittliche Photolackmaschine, die für die anspruchsvollsten Mikroelektronik- und Lithographieanwendungen entwickelt wurde. seine Kombination aus Präzision und Effizienz ermöglicht die schnelle und genaue Herstellung von Komponenten und Mustern mit einem Maß an Flexibilität und Genauigkeit, die von anderen Systemen beispiellos sind.