Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS800S #9383288 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON CS800S Photoresist Equipment ist eine hochmoderne Photolithographie-Lösung, die in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird, um eine hochpräzise Nanofabrikation zu ermöglichen. Das System verfügt über eine fortschrittliche integrierte Optik, die eine höhere Auflösung als jede andere verfügbare Photolithographieeinheit ermöglicht. Die aufgelösten Funktionen können so klein wie 100nm sein, mit einer typischen Auflösung von 5-10 Mikrometer. Das Werkzeug arbeitet mit einem „Step-and-Repeat“ -Ansatz, bei dem auf eine auf einer rotierenden Trommel platzierte Folie abgebildet und dann präzise positioniert wird, um mehrere Bilder auf einem einzigen Substrat zu erzeugen. Die Lichtquelle der Anlage ist ein UV-Laser, der durch eine breite Palette von Integrationslinsen erleichtert wird, um hochauflösende Muster auf hocheffiziente Weise zu erzeugen. Neben der verbesserten Auflösung bietet TEL CS800S einen hohen Durchsatz. Dies wird durch einen einzigartigen Spaltscanansatz und eine fortschrittliche Vorläuferbehandlungstechnologie (PAAA) ermöglicht, um schnellere Prozesszeiten zu ermöglichen. Zur weiteren Verbesserung des Prozesses wird eine präzise Ausrichtung durch ein optisches Metrologiemodell mit einem weiten Bereich von Winkeln, Tiefen und X-Y-Koordinaten ermöglicht, wodurch Variationen in den Mustern minimiert werden. Darüber hinaus umfasst das Gerät eine durchgängige Waferbelichtungsstation mit großen Öffnungen, um die Prozesszeiten zu reduzieren. Diese Station wird auch für die Nachbearbeitung verwendet, um sicherzustellen, dass das Endprodukt die erforderlichen Qualitätsmesswerte erfüllt oder übertrifft. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON CS-800S eine hochmoderne Photolithographie-Lösung, die verwendet werden kann, um Nanofabrikation mit überlegener Auflösung, hohem Durchsatz und verbesserten Produktionszeiten zu schaffen. Das System ist auch mit fortschrittlichen Integrationsobjektiven, PAAA-Technologie und Präzisionsausrichtungs-Messtechnik sehr anpassbar, um das Potenzial der Einheit weiter zu maximieren. Zusammen schaffen diese Merkmale eine wirklich revolutionäre Photolithographie-Lösung.