Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON LITHIUS ARF #9303277 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON LITHIUS ARF ist eine Art Photoresist-Ausrüstung, entwickelt und hergestellt von TEL, Ltd., einem führenden Anbieter von Halbleiter- und Dünnschichtherstellungsgeräten. Das System wurde entwickelt, um den Lithographieprozess für die Chipherstellung zu optimieren und zu optimieren. TEL LITHIUS ARF-Einheit besteht aus zwei Hauptkomponenten: der ARF-Maschine und dem Abscheidewerkzeug. Zum ARF Asset gehören ein automatisierter Resist Loader (ARL), ein automatisierter Resist Developer (ARD) und ein Wafer Inspection Roboter (WIR). Die ARL lädt die Wafer auf die ARD, die dann den benötigten Photolack basierend auf benutzerdefinierten Parametern ablagert. Die WIR führt dann eine Inspektion jedes Wafers durch, um zu überprüfen, ob der Resist konsequent abgeschieden wurde und die Waferoberflächenqualität zufriedenstellend ist. Das Abscheidemodell besteht aus einer Mikrometerspindel zur präzisen Steuerung der Filmdicke, einer Reaktionskammer zur Steuerung der Reaktionsumgebung, einem Vor- und Nachbelichtungsmodul zur präzisen Einstellung der Lichtintensität und einer Abgasanlage zur halbkontinuierlichen Verarbeitung von bis zu 25 Wafern. Das Abscheidungssystem verwendet fortschrittliche Abscheidungssteuerungsalgorithmen, um eine gleichmäßige Resistdicke auf jedem Wafer sicherzustellen. Die Kombination aus ARF-Einheit und Abscheidemaschine ermöglicht gleichbleibende, qualitativ hochwertige Belichtungen des Photolacks bei strenger Kontrolle der Reaktionstemperatur und Präzisionssteuerung über den Belichtungsgrad. Die Reaktionskammer ist auch so ausgelegt, dass sie Verunreinigungen minimiert und Ausbeuten maximiert. Das Tool verwendet ein „Just-in-Time“ -Ladegerät, das unnötige Ausfallzeiten reduziert, indem sichergestellt wird, dass Wafer nicht länger der Atmosphäre ausgesetzt bleiben. Darüber hinaus lässt sich TOKYO ELECTRON LITHIUS ARF problemlos in andere Systeme wie Stepper, Scanner und Glühsysteme integrieren und eignet sich somit gut für den Einsatz in Serienumgebungen. LITHIUS ARF ist eines der fortschrittlichsten verfügbaren Photolacksysteme und bietet überlegene Präzision, Zuverlässigkeit und Leistung in einem effizienten und kostengünstigen Paket.