Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius i #9215227 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius i ist eine Photoresist-Ausrüstung, die den Anforderungen der Photolithographie-Anwendungen gerecht wird. Es verwendet ein fortschrittliches Spin-Beschichtungssystem, um eine gleichmäßige, dünne Schicht aus flüssigem Photolack auf einen Siliziumwafer aufzubringen. Der Photolack wird dann mit UV-Licht belichtet, das die empfindlichen Moleküle auf der Oberfläche des Wafers aktiviert, wodurch sie zu einem Bild reagieren. Nach der Belichtung wird der Photoresist dann einem Lösungsmittel, manchmal auch als „Entwickler“ bezeichnet, ausgesetzt, das hilft, die belichteten Teile der Photoresistschicht selektiv zu entfernen und die verbleibenden unbelichteten Teile zurückzulassen. Die Photoresist-Einheit TEL Lithius i bietet eine Vielzahl von Funktionen, mit denen Photolithographie-Prozesse effizient und kostengünstig gestaltet werden können. Es ist mit einer hochauflösenden Wärmebildmaschine ausgestattet, um eine präzise Bildentwicklung zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt es über ein fortschrittliches Wafer-Handling-Tool, das eine maximale Ausnutzung der Waferoberflächen ermöglicht und gleichzeitig niedrige Fehlerraten gewährleistet. Im Hinblick auf die Sicherheit soll der Vermögenswert die Betreiber vor der Exposition gegenüber schädlichen Chemikalien schützen. TOKYO ELECTRON Lithius i eignet sich für den Einsatz in einer Vielzahl von photolithographischen Anwendungen, einschließlich Mikroelektronik, Biotechnologie und optischen Systemen. Sein Spin-Coating-Modell bietet hohe Genauigkeit und Gleichmäßigkeit, was zu hohen Ausbeuten und qualitativ hochwertigen Testergebnissen führt. Die fortschrittlichen Wafer-Handhabungs- und Wärmebildsysteme ermöglichen es den Geräten, äußerst genaue und präzise Prozesse durchzuführen. Darüber hinaus ist das System einfach zu bedienen und zu warten. Abschließend ist Lithius i eine zuverlässige und fortschrittliche Photolackeinheit, die sich für eine Vielzahl von Photolithographieverfahren eignet. Seine Spin-Coating-Maschine sorgt für eine gleichmäßige, gleichmäßige Beschichtung von Fotolackfilmen, während seine Wärmebild- und Wafer-Handling-Systeme für Genauigkeit und Präzision sorgen. Das Werkzeug ist auch entworfen, um Sicherheit und Effizienz zu maximieren, was zu hohen Erträgen und ausgezeichneten Testergebnissen führt.