Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius i+ #9235810 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Lithius i+
ID: 9235810
Wafergröße: 12"
Track system, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius i + ist ein Photoresist-Gerät, das bei der Fotolithographie eingesetzt wird. Es ermöglicht die genaue und effiziente Übertragung eines implementierten Schaltungsmusters auf einen Halbleiterwafer. Das System unterstützt optische Stepper und Projektoren, Entwicklungssysteme und Backöfen nach der Belichtung. Es verfügt über eine Kantenbelichtungsfähigkeit, Doppelwellenlängenbelichtung, automatische Substratkühlung und fortschrittliche Filmflusstechnologie. TEL Lithius i + setzt fortschrittliche Optoelektronik ein, einschließlich präziser Laserlichtquellen, hochgenauer optischer Positionierer und gepulster Photomasken. Die Lichtquellen dienen dazu, komplexe und präzise Muster auf die Halbleiterscheibe zu projizieren, die dann unterschiedlichen Belichtungszeiten genau ausgesetzt ist. Die Backöfen nach der Belichtung gewährleisten eine sichere Übertragung des belichteten Musters und die automatische Substratkühlung stellt sicher, dass Temperaturschwankungen während des Belichtungsprozesses verhindert werden. TOKYO ELECTRON Lithius i + Photoresist Maschine verfügt auch über fortschrittliche Film-Flow-Technologie. Diese Technologie liefert präzise gesteuerte Parameter und Rezepte, und Mustermerkmale sind einstellbar. Das Tool bietet auch Prozessoptimierung, entweder integriert in das Asset oder als separater Offline-Prozess. Darüber hinaus stellt die Kantenbelichtungsfähigkeit des Lithius i + Photoresist-Modells sicher, dass die Belichtung des Musters in seiner optimalen Ausrichtung geformt und beibehalten wird, was eine genaue Überlagerungsleistung gewährleistet. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine Doppelwellenlängenbelichtung, die es ermöglicht, verschiedene Photomasken mit unterschiedlichen Wellenlängen zu unterstützen. Insgesamt ist TEL/TOKYO ELECTRON Lithius i + Photoresist-System ein unschätzbares Werkzeug im Prozess der Fotolithographie, was zu genau und effizient implementierten Schaltungsmustern führt. Es ist eine kostengünstige, robuste Lithographielösung, die präzise und leistungsstarke Ergebnisse liefert und gleichzeitig einfach zu warten und zu bedienen ist.
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