Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius i+ #9384058 zu verkaufen

ID: 9384058
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2012
Track system, 12" 2012 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius i + ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die für Anwendungen in den Bereichen der Photolithographie entwickelt wurde. Es bietet optimale Leistung bei hochpräzisen Wafer-Musterbearbeitungen für eine Vielzahl von Mikrofabrikationsprozessen. Das System bietet automatisiertes Substratmanagement, Präzisionswiderstandsbeschichtung und Belichtung, schnelle Entwicklung und Sauberkeitskontrolle. TEL Lithius i + bietet höchste Präzision für Micropatterning-Operationen. Es verfügt über einen hochpräzisen Laserkopf mit höchster Genauigkeit und Wiederholbarkeit, eine fortschrittliche Würfeleinheit für automatisierte Substratplatzierung und eine Resistbeschichtungsmaschine, die eine breite Palette von Resist handhaben kann. Darüber hinaus verfügt das Werkzeug über einen eingebauten Sampler zur hochpräzisen Überprüfung von exponierten Mustern und Nachbelichtungsbacken (PEB). TOKYO ELECTRON Lithius i + ermöglicht schnellere Photolithographie-Prozesse durch präzise, schnelle Entwicklung von Photolack, gekoppelt mit einer speziellen Substratreinigungseinheit zur Verhinderung der Haftung von Restpartikeln auf den Substraten. Darüber hinaus kann das Gut die Resistkonzentration genau messen und kontrollieren und chemischen Resist abgeben. Lithius i + verfügt über verschiedene erweiterte Sicherheitsfunktionen, darunter einen Überstromsensor, einen Strahlungsmonitor und softwaregesteuerte Interlocks. Es verfügt auch über eine benutzerfreundliche Oberfläche und benutzerdefinierte Funktionen, mit denen Operationen einfach überwacht, verwaltet und angepasst werden können. Darüber hinaus ist das Modell mit einer Echtzeit-Datenerfassungs- und -analyse-Ausrüstung ausgestattet, die ein schnelles und einfaches Feedback zum Produktionsprozess ermöglicht. Insgesamt ist TEL/TOKYO ELECTRON Lithius i + ein fortschrittliches Photoresist-System, das eine optimale Leistung bei hochpräzisen Wafer-Musterbearbeitungen bietet. Es verfügt über modernes Substratmanagement, schnelle Verarbeitung und Präzisionskontrolle über Resistkonzentration und Abgabe. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine benutzerfreundliche Oberfläche, integrierte Sicherheitsfunktionen und kundenspezifische Funktionen, die es ideal für eine Vielzahl von Produktionsprozessen in einem breiten Spektrum von Bereichen machen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor