Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius i+ #9407206 zu verkaufen

ID: 9407206
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Coater / Developer system, 12" CIM: SECS, GEM Process: 193 nm Immersion BWEE (11) HCP (25) CPHP (3) DEV (3) ITC (3) ADH (5) BCT (4) COT (4) FOUPs (2) Solvent cabinets (2) SHINWA Temperature and Humidities Power box DEV Cabinet Handler system: SIM ITR CRA IRAM MRA (3) PRA Missing parts: (2) ADI ITC (2) CPHP Bad plates COT 2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius i + ist eine Photolackausrüstung der nächsten Generation, die für den Lithographieprozess fortschrittlicher Halbleiterbauelemente verwendet wird. Es ist in der Lage, die Bildgebungsleistung sowie eine höhere Produktivität und verbesserte Ertragsraten zu verbessern. TEL Lithius i + bietet ein fortschrittliches Bildgebungssystem für Front-End- und Back-End-Prozesse, das eine hochauflösende Strukturierung von Wafern mit einer minimalen Linienbreite von 0,3 um ermöglicht. Es kommt mit einer vollautomatisierten Ausrichteinheit, die schnell und präzise arbeitet und bis zu 4 Wafer gleichzeitig bearbeiten kann. Die Maschine verfügt auch über fortschrittliche Bewegungs- und Temperaturregelungssysteme, die einen reibungslosen, kontinuierlichen Ablauf während des Lithographieprozesses ermöglichen. Die in TOKYO ELECTRON Lithius i + verwendeten Photoresists wurden entwickelt, um die Leistung während der Lithographie zu verbessern und kleinere Merkmale zu schaffen. Das Werkzeug kann auch mögliche Fehler während des Lithographieprozesses erkennen und korrigieren, was zu höheren Erträgen und verbesserten Produktionsraten führt. Die Anlage ist mit fortschrittlicher Wärmesteuerung ausgestattet, die eine stabile Verarbeitung von Wafern unabhängig von ihrer Größe und Komplexität ermöglicht. Das fortschrittliche Optikmodell ermöglicht eine genaue Auflösungs- und Kontrastmanipulation auf molekularer Ebene. Das fortschrittliche Automatisierungsniveau der Ausrüstung gewährleistet schnelle, genaue Operationen von der Ausrichtung bis zur Exposition. Das System umfasst sowohl optische als auch Laserausrichtungswerkzeuge, um genaue Waferpositionen für maximale Auflösung zu gewährleisten. Seine internen Überwachungssysteme können durch Verunreinigungen verursachte Aberrationen erkennen und bieten ein hohes Maß an Vertrauen in die Genauigkeit der Ergebnisse. Die von der Einheit erzeugten Daten können auch zur Generierung automatisierter Prozesssteuerungsberichte verwendet werden, die wertvolle Daten zur Verbesserung der Genauigkeit und Ausbeute des Lithographieprozesses liefern. Schließlich ist die Maschine mit einer Vielzahl von anderen Systemen kompatibel, bietet nahtlose Integrationen und macht es einfach zu bedienen.
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