Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius Pro V-i #293603567 zu verkaufen

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ID: 293603567
Weinlese: 2011
(8) Coater / (7) Developer system No Hard Disk Drive (HDD) 2011 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius Pro V-i ist eine hochmoderne Photoresist-Ausrüstung für höchste Anforderungen an die Lithographie. Photolacksysteme sind für die Halbleiterindustrie unglaublich wichtig, da sie das Ätzen von Merkmalen in verschiedene Materialien ermöglichen. TEL Lithius Pro V-i verwendet Projektexposition, um ein Muster aus einer gespendeten Maske zu erstellen. Dies geschieht mit einem Mustergenerator, der eine revolutionäre Gitterlichtventil (GLV) -Technologie verwendet, um bis zu 8,5 Nanometer Auflösung bei einer Belichtungsdosis von 12,0 mJ/cm2 in diesen 40-nm-Leitungen zu produzieren. Zusätzlich nutzt die Pro V-i variable numerische Apertur (VNA) -Steuerung und Kohärenzsteuerung des Teilkohärenzbeleuchtungssystems, um eine optimale Overlay-Genauigkeit zu erreichen. Der Pro V-i bietet zudem eine verbesserte Belichtungsgenauigkeit mit maximal ± 1 nm Fokusüberwachung und einer ± 1 mJ/cm2 Dosismessung. Darüber hinaus unterstützt das Pro V-i eine Reihe von Prozessen wie Aschen, Reinigen und Backen des Resistmaterials. Das Gerät bietet außerdem einen vollständigen Überlastschutz von Scanmaschine, Belichtungswerkzeug und Manipulator, um sicherzustellen, dass die Ausrüstung nicht durch Überspannungen beschädigt wird. Der Pro V-i verfügt zudem über eine Reihe weiterer Funktionen wie seine fortschrittliche Steuerungselektronik, die Funktionen wie anpassbare Alarme, Sicherheitsparameter und Datenarchivierung sowie eine umfangreiche Palette von Schnittstellen für eine erhöhte Asset-Automatisierung bietet. Schließlich enthält das Pro V-i eine automatische Fokus-Steuerschnittstelle für verbesserte Fokussiergenauigkeit und eine Reihe von abnehmbaren Masken-Tabletoolen für die saubere Entfernung von Masken zwischen den Expositionen. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON LITHIUS PRO VI ein unglaublich fortschrittliches Photoresist-Modell, das für höchste Anforderungen an die Lithographie entwickelt wurde. Die Vielzahl an Funktionen und das benutzerfreundliche Design machen es zu einem vielseitigen, zuverlässigen Werkzeug, das es zu einer idealen Wahl für die moderne Halbleiterindustrie macht.
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