Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293587437 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Lithius
ID: 293587437
Weinlese: 2008
Coater / Developer system 2008 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine Photoresist-Ausrüstung für Waferbearbeitungsanwendungen. Es wurde entwickelt, um eine hochauflösende Musterfähigkeit mit geringer Defektivität und minimaler Umweltbelastung zu bieten. Das System arbeitet, indem eine lichtempfindliche chemische Beschichtung, ein sogenannter Photoresist, auf den Wafer aufgebracht wird. Der Photolack wird dann einer üblicherweise in der Lithographiekammer befindlichen UV-Lichtquelle ausgesetzt, die bestimmte Bereiche des Wafers bestrahlt. Die dem Licht ausgesetzten Bereiche werden gegenüber einer Entwicklerlösung unlöslich, während die dem Licht nicht ausgesetzten Bereiche löslich bleiben. Die Entwicklerlösung dient dann dazu, diese dem Licht ausgesetzten Beschichtungen selektiv zu entfernen und dadurch ein feines Muster auf dem Wafer zu erzeugen. TEL Lithius-Einheit enthält eine Vielzahl von Prozessmodulen, um sicherzustellen, dass die Photolackbeschichtung, Belichtung und Entwicklerlösung Anwendungen alle zu den richtigen Zeiten und Einstellungen auftreten. Die Maschine umfasst auch eine Reihe von bildgebenden Komponenten, einschließlich einer optisch kompensierten CCD-Kamera, Polarisationsfilter, automatische Zonenabbildung und digitale Bildverarbeitungssoftware. Alle diese Komponenten arbeiten zusammen, um sicherzustellen, dass die Prozessparameter für den Photolackauftrag und die Belichtung genau sind. TOKYO ELECTRON Lithius Photoresist Tool wurde entwickelt, um sehr zuverlässig und kostengünstig zu sein. Die Anlage besteht aus rostfreien Stahlbauteilen, die korrosions- und schlagfest sind, sowie einer hohen Turbulenzkontrolle, um die Menge an Partikeln, die in die Lithographiekammer eingebracht werden könnten, zu reduzieren. Darüber hinaus verfügt das Photolackmodell über einen hohen Automatisierungsgrad und bietet eine flexible Integration in Halbleiterprozesssysteme. Kurz gesagt, Lithius Photoresist-Geräte bieten eine hohe Auflösung und wiederholbare Musterfähigkeit mit geringer Defektivität und minimaler Umweltbelastung. Die zuverlässige Konstruktion und der hohe Automatisierungsgrad des Systems sorgen für eine zuverlässige, kostengünstige Waferbearbeitung.
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