Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293595663 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Lithius
ID: 293595663
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005
Coater / Developer systems, 12" 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine Photoresist-Ausrüstung, die eine präzise Strukturierung von Photoresist-Dünnfilmen auf verschiedenen Substraten ermöglicht und Lithographie-, Ätz- und Direktschreibanwendungen ermöglicht. Das System nutzt eine Projektions- und Diffusionsbelichtungsquelle zusammen mit einer Flüssigkeitsfilmbildungseinheit, der sogenannten Spin-Coat-Einheit, zur Steuerung der Auflösung und Abscheidung des Photoresistmaterials. Die Belichtungsquelle erzeugt fokussierte Lichtstrahlen des benötigten UV-Spektrums, die auf eine Quarzscheibe gerichtet sind. Nach Durchlaufen dieser Linse wird das UV-Licht von zwei Diffusoren gefiltert, bevor es an die Oberfläche des Photolackfilms gelangt. Die Photoresist-Maschine ist so konzipiert, dass sie eine präzise Strukturierung von Photoresist-Dünnfilmen auf einer Reihe von Substraten ermöglicht. Dazu gehören Silizium, Glas, Keramik, Kunststoff, Kupfer und Aluminium. Das Tool verfügt auch über die Möglichkeiten, eine Reihe von Halbleiterbauelementen zu verarbeiten, darunter DRAM- und DRAM-Cache-Speicher, CMOS-Bildsensoren und MEMS. Die vom Asset erzeugte Projektion und diffuse Exposition kann eine Auflösung von mehr als 1 μ m aufweisen. Diese geringe Auflösung ermöglicht kleinere Nanomuster mit hoher Genauigkeit, was bei der Geräteherstellung wichtig ist. Das Modell wird mit der Spin-Coat-Einheit vervollständigt. Diese Einheit ist für die Abscheidung und Auflösung der Photolackfolie verantwortlich und ermöglicht eine gleichmäßige Filmabscheidung auf dem Substrat. Die Spin-Coat-Einheit bringt den Photolack über eine luft- oder vakuumunterstützte Spinntechnik auf. TEL Lithius Photoresist-Geräte sind hoch fortgeschritten und haben sich bewährt, eine Reihe von Substraten effizient und präzise zu verarbeiten. Dieses System ermöglicht es Geräteherstellern, qualitativ hochwertige Lithographie-, Ätz- und Direct-Write-Geräte mit hoher Auflösung und erhöhter Effizienz zu entwickeln.
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