Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293595668 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Lithius
ID: 293595668
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Coater / Developer system, 12" 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist ein fortschrittliches Photoresist-System, das Herstellern hilft, Details in Oberflächen mit minimalem Abfall und geringeren Kosten zu ätzen. Es verwendet ultraviolettes (UV) und sichtbares (VIS) Licht, um komplexe Muster auf einer Vielzahl von Substraten wie GaAs, SiO2, SiN und mehr abzubilden. Das System besteht aus mehreren Komponenten, darunter einer Lichtquelle, einer Optik, einem Lenkspiegel und einer Lithographieeinheit. Die Lichtquelle ist ein Hochleistungs-UV/Visible (U/V) -Laser, der eine ausgezeichnete Wellenlängenauflösung hat und seine Genauigkeit und Treue stark verbessert, während seine Optik darauf ausgelegt ist, ein einheitliches Bild zu projizieren. Der Lenkspiegel, ein hochempfindliches, automatisiertes Gerät, ist mit der Linse verbunden, um eine genaue Musterprojektion auf das Substrat zu gewährleisten. Wenn Lichtquelle und Optik richtig konfiguriert sind, wird ein Photolack auf das abzubildende Substrat aufgebracht. Photoresists sind eine spezielle Art von Chemikalie, die gegenüber UV und sichtbarem Licht empfindlich ist und eine chemische Reaktion durchläuft, wenn sie belichtet wird. Nach dem Belichten des Resists mit dem Laser kann das gewünschte Muster entwickelt und anschließend der Resist gereinigt werden, wobei das gewünschte Ätzmuster zurückbleibt. Der Einsatz von TEL Lithius in der Photolithographie bietet erhebliche Vorteile gegenüber der herkömmlichen Photolithographie. Es ist schneller, genauer und kann ein viel höheres Auflösungsmuster als herkömmliche Photolithographie projizieren. Darüber hinaus ist es kostengünstiger, verwendet eine erheblich geringere Menge an Photolack und anderen Verbrauchsmaterialien und ist viel sauberer, da der Photolack verdampft, anstatt weggeschrottet zu werden. TOKYO ELECTRON Lithius ist ein Hochleistungs-Photoresist-System, das von Herstellern verwendet werden kann, um komplexe Muster auf Substraten genauer und wirtschaftlicher zu ätzen als herkömmliche Photolithographie. Es ist vielseitig, zuverlässig und kann ein hochauflösendes Muster mit minimalem Abfall von Fotolack und anderen Verbrauchsmaterialien erzeugen. Als solches ist es eine ideale Wahl für die Serienfertigung von Substraten mit komplizierten Mustern, die in verschiedenen Branchen verwendet werden.
Es liegen noch keine Bewertungen vor