Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293610403 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Lithius
ID: 293610403
Wafergröße: 8"-12"
Coater, 8"-12" Inline: 150 WPH Craft: Immersion, ArF, KrF, i-line Substrate: Si, glass.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine Photolackverarbeitungsanlage, die eine hervorragende Leistung in einer Reihe fortschrittlicher Lithographieanwendungen bietet. Es verfügt über ein vollautomatisches und integriertes System, mit dem Benutzer einfach ein einzelnes Werkzeug konfigurieren können, um verschiedene Waferstrukturen mit verschiedenen Photolackmaterialien zu verarbeiten. Das Gerät verwendet eine Next Generation Optical Exposure-Maschine oder NEXTGen, um Photolack mit einer Frequenz zu belichten, die für eine verbesserte Mustergenauigkeit bis zu 0,4 μ m Linien und Leerzeichen geregelt ist. Das Tool wurde entwickelt, um Photomasken, Stepper und Scanner einfach zu integrieren, um eine optimale Flexibilität bei der Strukturierung von Geräten und Schaltkreisen zu ermöglichen. Die fortschrittlichen Wafer-Handling-Funktionen von TEL Lithius ermöglichen zudem eine nahtlose und effiziente Übertragung von Substraten von Lastports zu Prozessen. Der Vermögenswert ist für eine überlegene Renditekontrolle und Wirtschaftlichkeit ausgelegt. Es verwendet ein erweitertes Substrat-Gleichförmigkeitsmodell (SUS) für die Fehlerempfindlichkeit und maximiert die Ertragskontrolle mit minimierter Teil-des-Feldes-abhängiger Gleichförmigkeitsvarianz. Darüber hinaus verwendet das Gerät eine Vielzahl fortgeschrittener PR-Filme, die wenig Wafer-Verzug erfordern und gleichzeitig eine hochauflösende Bildgebung ermöglichen. Die innovativen Funktionen von TOKYO ELECTRON Lithius decken auch die Minimierung der Wafer-Kosten ab. Es ist so konzipiert, dass ein einzelnes Lithographiesystem verschiedene Prozessschritte bewältigen und Folien widerstehen kann, wodurch zusätzliche Großrechner- und Softwareinvestitionen entfallen. Darüber hinaus minimiert es die Betriebskosten, indem es eine effiziente Steuerung von Photolack und Ätzbestandteilen kombiniert. Im Laufe seiner langen Geschichte hat Lithius Photoresist Unit konsequent zuverlässige, kostengünstige und effiziente Lösungen für fortschrittliche Lithographie-Prozesse angeboten. Seine innovativen Funktionen und fortschrittlichen Bordsysteme gleichen Kosten und Leistung effektiv aus, um eine überlegene Ertragskontrolle und einen verbesserten Prozessablauf zu gewährleisten. Die hochautomatisierte, integrierte Maschine erspart Mehrfachinvestitionen, optimiert die Arbeitsbelastung und schafft einen Leistungsvorteil für die Geräteherstellung.
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