Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293615289 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Lithius
ID: 293615289
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Coater / Developer system, 12" 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine Lithographie-Ausrüstung, die eine tiefe ultraviolette (DUV) Lithographie mit einem Photoresist-Material ermöglicht. Es verwendet eine spezielle Art von Photoresist-System, als organischer Photoresist (OPR) bezeichnet, die extrem effektiv ist, wenn in Ultraviolettlicht Lithographie Anwendungen verwendet. Diese Einheit eignet sich besonders für die Herstellung kleiner und komplexer Strukturen, die in Branchen vorhanden sind, die höchste Genauigkeit in ihren Endprodukten erfordern. Bei der Lithographie wird der Photolackfilm zunächst einer UV-Lichtquelle ausgesetzt. Die Lichtquelle wird durch den Filmtyp und die Anwendung wie DUV oder DUV-Overlay definiert. Bei der Belichtung werden die Moleküle des Photoresistmoleküls abgebaut und die belichteten Moleküle entfernt. Dieses Verfahren entfernt die unerwünschten Materialbereiche aus dem Fotolackfilm, erzeugt das gewünschte Muster und erzeugt ein Muster auf Film. TEL Lithius-Maschine ist dann in der Lage, das Muster-auf-Film in das lichtempfindliche Werkstückmaterial genau zu übertragen. Das lichtempfindliche Werkstück wird zunächst einem hochauflösenden Laser ausgesetzt, der das Muster auf dem gewünschten Substrat genau und präzise registriert. Das registrierte Muster wird dann auf das Substrat übertragen und die gewünschte Struktur skizziert. Das TOKYO ELECTRON Lithius-Tool wurde speziell entwickelt, um die Genauigkeit und Reproduzierbarkeit des Muster-auf-Film-Betriebs durch seinen mehrstufigen Anwendungsprozess zu gewährleisten, der hochauflösendes Scannen, automatische Korrektur und ein Hochleistungsätzmittel umfasst. Durch diesen Prozess überträgt sich die Genauigkeit und Präzision der Muster auf das Substratmaterial und gewährleistet einen sehr reproduzierbaren Prozess. Aufgrund seiner Genauigkeit, Präzision und Reproduzierbarkeit eignet sich Lithius Asset besonders für eine Vielzahl von Anwendungen, einschließlich der Herstellung von Entwicklungs- und handelsüblichen Wafern, der Musterprüfung, der Reparatur sowie der Lithographie für die Halbleiterherstellung. Das Modell ist auch sehr anpassungsfähig, kann durch verschiedene Prozesse und Anwendungen, wie Ätzen, Inspektion und verschiedene Oberflächenbehandlungen verwendet werden. Die Verwendung von TEL/TOKYO ELECTRON Lithius-Geräten sorgt dafür, dass hohe Genauigkeit, Detailgenauigkeit und Reproduzierbarkeit in einer Vielzahl von Bereichen erreicht werden können. DUV-Photoresist-Material bietet eine vielseitige und zuverlässige Anwendung für eine Reihe von Elektronik-Fertigungsprozessen. Seine kompakte Bauweise, hohe Auflösung und die Fähigkeit, komplexe Muster zu produzieren, geben dem Anwender den Protonenstrahl der Lithographietechnologie, ideal für diejenigen, die eine Fertigung mit höchster Genauigkeit benötigen.
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