Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293671305 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine Photoresist-Ausrüstung, die in Lithographieanwendungen in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Es handelt sich um einen Resistfilm, der aus dem Gemisch aus photohärtbaren Verbindungen und einem photostabilen Medium wie einem organischen Lösungsmittel hergestellt wird. Es wird am häufigsten für Halbleitermuster verwendet, einschließlich integrierter Schaltungen und MEMS. Der erste Verfahrensschritt besteht darin, das Substrat mit dem Resistfilm zu beschichten. Die Folie wird mit einem Spin-Coater hergestellt, der mit hoher Geschwindigkeit spinnt, um den Resist gleichmäßig auf das gesamte Substrat zu verteilen. Der Resist wird dann je nach verwendeter Resistart mit ultraviolettem Licht oder anderer elektromagnetischer Strahlung abgebildet. Nach der Belichtung des Bildes wird es durch Entfernen des belichteten Resists mit einem Lösungsmittel entwickelt. Dies zeigt das Muster der Arbeitsschicht auf dem Substrat. Das Resistsystem ist extrem empfindlich gegen ultraviolettes Licht und seine chemische Zusammensetzung sorgt dafür, dass es unter rauen Bedingungen stabil bleibt. Seine überlegene Haftung beseitigt die Möglichkeit von Substratschäden und minimiert Verschmutzungen. Das Gerät hat auch die Fähigkeit, Fehler genau zu erkennen und die Fähigkeit, große Muster zu verarbeiten. Damit eignet es sich ideal für hochdichte und präzise Musterverfahren. Die hervorragende Stabilität der Maschine sorgt dafür, dass die Linienbreiten und -formen konstant bleiben, ohne im Laufe der Zeit zu schrumpfen oder zu expandieren. Da der Resistfilm ultraviolettlichtempfindlich ist, kann er auch zur Untersuchung von Proben verwendet werden, indem eine Probe auf den Film gelegt wird. Dadurch können Fehler bis zu 0,1 µm erkannt oder Merkmalsgrößen mit 0,01 µm Genauigkeit gemessen werden. Es kann auch KE-Höhen verschiedener Ebenen mit einer Genauigkeit von nur 0,001 nm erkennen. Das Resistwerkzeug ist auch in der Lage, Strukturen mit hohem Seitenverhältnis zu verarbeiten, bei denen die Dicke bis zu 1 nm betragen kann. Dies macht es zu einer idealen Wahl für geätzte Strukturen, insbesondere in der modernen Halbleiterlithographie. Die Kombination aus Empfindlichkeit und Stabilität des Asset macht es häufig in einer Vielzahl von Anwendungen von Wafer-Lithographie zu entstehenden MEMS-Strukturen und fortschrittlichen Verpackungsstrukturen verwendet. Das Modell wird wegen seiner hohen Leistung und Wiederholbarkeit auch für die Messtechnik verwendet. TEL Lithius ist eine einzigartige Photolackausrüstung, die in Halbleiter- und MEMS-Projekten eingesetzt wird. Seine Fähigkeit, rauen Umweltbedingungen standzuhalten, ausgezeichnete Haftung und Genauigkeit machen es zu einer idealen Wahl für Lithographieverfahren und messtechnische Anwendungen. Mit der Entstehung von fortschrittlichen MEMS-Mustern und -Verpackungen ist das Resistsystem zu einem wesentlichen Werkzeug geworden, um die notwendigen detaillierten Muster für diese neuen Technologien zu erstellen.