Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293766619 zu verkaufen
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ID: 293766619
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Coater / Developer systems, 12"
2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine Reihe von Photoresist-Systemen, die von TEL (TOKYO ELECTRON Ltd.) mit fortschrittlichen Funktionen entwickelt wurden, die es zum Industriestandard für Photolithographieanwendungen machen. Diese Systeme bieten präzise Strukturierung von Substraten wie Glas, Kristall, Polyimid und Polysilizium mit genauer Ausrichtung und Belichtungssteuerung. Zu den Hauptkomponenten der Anlage gehören eine Photolackverarbeitungsumgebung, ein Belichtungssystem, eine Ausrichteinheit, eine Prozesssteuerungsmaschine und ein Nachbearbeitungswerkzeug. Die Photoresist-Verarbeitungsumgebung ist speziell für die Verarbeitung gefährlicher Chemikalien in der Luft in einer sicheren, kontrollierten Umgebung konzipiert. Damit ist sichergestellt, dass Photolithographieaufträge mit Genauigkeit und Präzision zuverlässig erledigt werden können. Der Belichtungswert bietet eine maßgeschneiderte Lichtintensitätsverteilung für die Anwendung von Photolithographiemustern. Dies geschieht mit einer Reihe von hochpräzisen USHIO-Lichtquellen, um einen gleichmäßig verteilten Lichtstrahl über den gesamten Substratbereich zu erzeugen. Der Belichtungsprozess kann nach Bedarf eingestellt werden, um eine feine Strukturierung mit ausgezeichneter Ausrichtungsgenauigkeit zu erreichen. Das Ausrichtungsmodell ermöglicht eine präzise Substratpositionierung und -bewegung während des Belichtungsprozesses. Ein Satz hochempfindlicher Detektoren bestimmt die genaue Position des Substrats vor und nach dem Belichtungsprozess, was eine genaue Überlagerung und Musterregistrierung ermöglicht. Zusätzlich wird eine CCD-Kamera zur Mustererkennung und bildgebenden Analyse verwendet. Die Prozesssteuerungseinrichtung führt alle notwendigen Berechnungen für eine präzise Photolithographie-Verarbeitung durch. Dieses System kann für eine präzise Maskenpositionierung automatisch kalibrieren, ideale Belichtungsparameter berechnen und für kleine Temperatur- und Feuchtigkeitsschwankungen anpassen. Schließlich übernimmt die Nachbearbeitungseinheit zusätzliche Verarbeitungsanforderungen wie Entwicklung, Ätzen und Schutzbeschichtung. Diese Maschine bietet den erforderlichen UV- und chemischen Schutz vor und nach der Verarbeitung, um die Integrität des Substrats zu erhalten. Das Ergebnis des Einsatzes von TEL Lithius Photolacksystemen sind zuverlässige und qualitativ hochwertige Ergebnisse. Photolithographie-Anwendungen, die präzise Musterung, genaue Ausrichtung und Wiederholbarkeit erfordern, werden mit beispielloser Präzision und Präzision durchgeführt. Das Werkzeug ist robust genug, um komplexe Anwendungen zu bewältigen und die effiziente Realisierung komplizierter elektronischer Geräte zu ermöglichen.
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