Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293793614 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine vollautomatische Photolackausrüstung, die für präzise Photolithographieverfahren entwickelt wurde. Das System bietet eine breite Palette von Funktionen für eine effiziente Resistverarbeitung und überlegene Musterergebnisse. Es ist für die Produktion mit hohem Durchsatz optimiert und nutzt die neuesten Fortschritte in der Lithographietechnologie. Das Gerät ermöglicht die Bearbeitung von bis zu acht Arten von Resist auf großen und kleinen Substraten auf einmal, mit einem automatisierten Dickenkontrollmechanismus, der Prozessgleichmäßigkeit und hohe Genauigkeit gewährleistet. Die Maschine besteht aus einer Lichtquelle, einer optischen Bühne und einer Plattform zur Positionierung des mit der Maskenstufe ausgerichteten Substrats. Die optische Stufe umfasst ein Präzisionsausrichtwerkzeug und einen Stepper, mit dem das Substrat bewegt wird. Die Lichtquelle ist für die Bereitstellung von Licht der erforderlichen Wellenlänge und Intensität verantwortlich und kann sowohl Standard- als auch fortschrittliche Lithographieverfahren durchführen. Die Anlage verfügt über eine Reihe fortschrittlicher Funktionen, darunter ein spezielles Mehrschicht-, Resistverarbeitungsmodul und einen maßgeschneiderten Förderer, der automatisch großflächige Substrate verarbeitet. Das automatische Wafer-Positionierungsmodell ist mit einem einzigartigen optischen Scanner und einer intelligenten Reinigungsausrüstung integriert. Es ist auch mit einer motorisierten Maskenstufe, einem integrierten Vakuumsystem und einem Auto-Tuning ausgestattet. Das Gerät bietet hervorragenden Schutz vor Kontamination und ist mit einem speziellen Schutzgas gefüllt, um eine langfristige Wartung zu gewährleisten. Es ist mit einer einfachen Benutzeroberfläche und einem Touchscreen-Display konzipiert und ermöglicht eine schnelle und genaue Anpassung der Parameter. Die Maschine hat auch eine schwingungsarme Konstruktion, wodurch eine Schwingungsdämpfung teilweise entfallen kann. Für überlegene Musterergebnisse sind Fotoausrichtungs-, Fokusfindungs- und Linsenfokussierungsfunktionen in das Tool integriert. Das Asset ist schnell und effizient und bietet den Betreibern eine unvergleichliche Leistung und Flexibilität. Es ist kompatibel mit einer breiten Palette von Photoresists und wurde entwickelt, um die Bedürfnisse einer Vielzahl von Branchen zu erfüllen. Es ist ein idealer Weg, um Photolithographie-Prozesse zu optimieren, den Durchsatz zu verbessern und überlegene Präzision zu erhalten.