Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9032288 zu verkaufen

ID: 9032288
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2006
Track system, 8", parts machine The tool was used for internal training which parts have been exchanged Missing parts: CSV arm (2) ADH CPHP bake Hard disk 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine Photoresist-Anlage für Photolithographie-Prozesse in der Halbleiterindustrie. Photolithographie ist eine Drucktechnik, die verwendet wird, um ein Designmuster auf ein Substrat mit lichtempfindlichen Chemikalien zu übertragen. Das Photolacksystem besteht aus einer Lichtquelle, einer das Designmuster enthaltenden Fotomaske und einem Photolackmaterial. Die Lichtquelle ist typischerweise ein UV-Laser oder eine Quecksilberbogenlampe. Die Fotomaske ist ein Stück Glas, Metall oder Kunststoff mit einem Design-Muster, Löcher oder Nuten in sie geätzt. Der Photolack ist ein lichtempfindliches Material, das auf das Substrat aufgebracht wird. Bei Belichtung wird der Photolack aktiviert, wodurch er eine chemische Reaktion mit dem Substrat bildet und das Muster in die Oberfläche einätzt. TEL Lithius-Einheit wurde entwickelt, um die Genauigkeit der Photolithographie-Prozesse zu verbessern. Es verwendet Elektroden-Messsysteme und Laser-Detektionssysteme, um die Genauigkeit der Photomaske und Photoresist-Systeme zu verbessern. Die Verwendung mehrerer Elektroden ermöglicht es der Maschine, Verformungen im Photolackmaterial sowie Partikel zu erkennen und so die Genauigkeit des Photolackmusters zu gewährleisten. Darüber hinaus nutzt das Präzisionslaser-Erkennungswerkzeug die gleichzeitige Beobachtungsgenauigkeit und passt sich automatisch an Fehl- und Bewegungsfehler während des Prozesses an. TOKYO ELECTRON Lithius Asset ist auch so konzipiert, dass Schaltungsmerkmalsgrößen kleiner sind als bei herkömmlichen Photolithographieverfahren. Dies geschieht unter Verwendung des Präzisionslaser-Detektionsmodells und der in der Anlage verfügbaren Mikroverarbeitungsschaltungen. Das Präzisions-Laser-Detektionssystem dient zur Detektion von Größe, Form und Orientierung der Photomaske und des Photoresists, wodurch überaus kleine Merkmale auf dem Substrat erzeugt werden können. Die Mikroverarbeitungsschaltungen ermöglichen auch die Automatisierung der Photolithographie-Prozesse, was dem Benutzer die Möglichkeit gibt, die Ausgangsparameter wie die Linienbreite zu steuern und anzupassen. Insgesamt ist Lithius-Einheit hochgenau, automatisiert und in der Lage, Schaltungsmerkmale kleiner Größe zu schaffen. Dies macht es ideal für den Einsatz in der Halbleiterindustrie und bietet effiziente und zuverlässige Photolithographie-Prozesse.
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