Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9102159 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine Photoresist-Ausrüstung, die bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen wie Computerchips und anderen elektronischen Bauelementen verwendet wird. Das System bringt ein lichtempfindliches Material oder Photolack auf einen Siliziumwafer auf. Bei Belichtung werden je nach Belichtung des Photolacks bestimmte Teile der Siliziumscheibe weggeätzt. Die physikalische Form der Bauteile kann dann in die übrigen Bereiche geätzt werden, so daß das resultierende Produkt sein gewünschtes mikrodimensionales Muster erhält. TEL Lithius Photoresist Unit ist eine vakuumbasierte Fähigkeit, die entwickelt wurde, um eine kritische Schicht gleichmäßiger Abdeckung von Photoresist-Materialien über einen vollen Silizium-Wafer oder ein anderes Substrat zu skizzieren. Die Maschine steuert die Bewegung mehrerer Prozesse gleichzeitig, um beste Gleichmäßigkeit und Produktivität zu bieten. Sie folgt dem Lithographieprozess Schritt für Schritt und gewährleistet die umfassende Programmierung der für die Endprozessleistung erforderlichen speziellen Eigenschaften. Das Werkzeug hat die Fähigkeit, 200mm Silizium-Wafer zu handhaben, und funktioniert auch mit größeren Durchmesser 300mm Wafer, sowie mit anderen Substraten, wie Glas. Ein breites Spektrum an Resists, von positiv bis negativ, steht für die Verwendung im Asset zur Verfügung. Je nach Anwendung müssen für die spezifischen Zwecke jedes Technikers unterschiedliche Resists und eine Reihe von Substraten wie Quarz, Quarz auf Quarz, Glas oder Silizium verwendet werden. Dies ermöglicht eine Vielzahl von Anwendungen von Halbleiteranwendungen bis hin zu Anzeige- und Solarzellenanwendungen. TOKYO ELECTRON Lithius Photoresist Modell arbeitet durch die Funktion in einer Reihe von Schritten, die Spin Spülen, Pre-Coat, Post-Coat, Pre-Backen, sanfte Backen und weiche Backen. Jeder dieser Schritte wird überwacht, um sicherzustellen, dass die gewünschten Ergebnisse eingehalten werden und die Haftung und die Prozessbreite innerhalb der Spezifikation liegen. Die Ausrüstung ist auch in der Lage, eine mehrschichtige Resist-Strategie mit positiven und negativen Resists zu verwenden, wodurch extrem hochwertige Muster entwickelt werden können. Das gesamte System ist softwaregesteuert, was eine einfache Bedienung und Programmierung ermöglicht. Es unterstützt mehrere Wafer-Funktionen und ermöglicht eine vollautomatische Lösung, die manuelle Wafer-Handhabung ersetzen kann. Darüber hinaus ist das Gerät mit einer Reihe von Prozesseigenschaften ausgestattet, die sowohl sicher als auch zuverlässig sind, wie Temperatur, Belichtungszeit, Drehzahl und Druck, die alle genau getaktet werden müssen, um die gewünschten Ergebnisse zu erzielen. Insgesamt bietet Lithius Photolackmaschine eine zuverlässige und effiziente Möglichkeit, hochkomplexe und präzise Halbleiterbauelemente herzustellen. Es bietet ein hohes Maß an Kontrolle und Genauigkeit, und sein automatisierter Prozess gewährleistet die gleichbleibende Qualität der Produkte.