Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9105628 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius Photoresist Equipment ist eine fortschrittliche lithographische Verarbeitungstechnologie, die speziell für Präzisionslithographieanwendungen entwickelt wurde. Dieses System verwendet eine UV-Lichtquelle, um Muster auf einem Siliziumwafer zu erzeugen, die dann als Grundlage für die Geräteherstellung verwendet werden. Zu den Hauptkomponenten der Einheit gehören ein spezialisiertes Fotolackmaterial, eine Maske oder ein Kunstwerk sowie eine integrierte Präzisionsoptik und Beleuchtungsmaschine. Alle Komponenten des Werkzeugs wurden für die hochpräzise lithographische Bearbeitung konzipiert und optimiert. Das Photolackmaterial ist ein lichtempfindliches Polymer, das die Erzeugung komplizierter Muster auf einem Siliziumwafer ermöglicht. Der in TEL Lithius Photoresist Asset verwendete Photoresist ist ein hochauflösendes, vernetztes Photopolymer, das sehr empfindlich auf UV-Licht reagiert. Dieser Photolack wird auf eine Siliziumscheibe gesponnen und vor der Belichtung einer hochpräzisen Ausrichtung unterzogen. Mit einem integrierten Präzisionsoptikmodell wird ein Bild- oder Maskenmuster auf den Fotolack projiziert. Diese Grafik ist exakt ausgerichtet, um sicherzustellen, dass die vom UV-Licht erzeugten Muster innerhalb der vom Gerätehersteller vorgegebenen Toleranzen liegen. TOKYO ELECTRON Lithius Photoresist Equipment verwendet auch eine Leuchtdiode (LED) -Anordnung für die Beleuchtung. LED-Beleuchtungsarray ist zuverlässiger, effizienter und hat im Allgemeinen einen breiteren Spektrumbereich als andere Lichtquellen, die in der Mikroelektronik-Fertigung verwendet werden. Die LEDs erzeugen einen hellen, gleichmäßigen Lichtstrahl, der präzise auf den photoresistbeschichteten Siliziumwafer gerichtet ist. Nach Belichtung wird der photoresistbeschichtete Wafer dann einer Reihe chemischer Prozesse wie Entwicklung und Einbrennen unterzogen. Während des Entwicklungsprozesses wird der Photolack selektiv aus nicht strukturierten Bereichen des Wafers entfernt, wobei die strukturierten Bereiche zurückbleiben. Der Einbrennprozess vernetzt den verbleibenden Photolack weiter, wodurch die endgültige Härte und elektrische Isolierung der strukturierten Bereiche gewährleistet ist. Lithius Photoresist System bietet eine Präzisions-Lithographielösung für die Herstellung hochwertiger integrierter Schaltungen. Die Verwendung von hochauflösendem Photopolymer, Präzisionsoptik und LED-Beleuchtungsarray ermöglicht eine konsistente Verarbeitung und Geräteherstellung im Funktionsmaßstab. Darüber hinaus bietet seine Fähigkeit, komplizierte Muster mit minimalen Toleranzen herzustellen, ein ideales Werkzeug für die Herstellung der heutigen hochkomplexen elektronischen Geräte.