Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9111796 zu verkaufen

ID: 9111796
LHP Low Temperature Hot Plate Process Station BASE(HP) ASSY BACK, P/N: 5087-401692-19 PIN(LHP) ASSY, P/N: 5087-401693-14 SUPPORT ASSY, P/N: 5085-407314-12 BASE(E-LHP) ASSY, P/N: 5087-401375-16 COVER(HP) ASSY, P/N: 5085-407301-12 PLATE ASSY, P/N: 5085-402639-13 CHAMBER (LHP) ASSY - 5085-407323-15 COVER(LHP)ASSY BACK - 5085-407933-14.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine zuverlässige Photolackausrüstung von TEL, einem weltweit führenden Anbieter von Halbleiterherstellungsgeräten und -materialien. Photoresistsysteme werden bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen eingesetzt, insbesondere bei Lithographieverfahren, bei denen mit Photoresistabbildungen Schaltungsmuster auf Siliziumwafer übertragen werden. TEL Lithius ist auf hohe Präzision und Zuverlässigkeit ausgelegt und bietet einzigartige Funktionen, die eine verbesserte Prozessleistung ermöglichen. Das System wurde entwickelt, um häufige Probleme im Zusammenhang mit Photoresist-Belichtung, wie ungleichmäßige Belichtung und Musterverzerrung zu reduzieren. Dies geschieht durch die Verwendung einer erweiterten optischen Einheit mit einer großen numerischen Apertur (NA) und hoher Wellenlängengengenauigkeit. Es verfügt auch über eine programmierbare Z-Servomaschine, die die Waferposition anhand einer vordefinierten Konstruktion genau einstellen kann. Die optischen und Z-Servosysteme lassen sich für eine verbesserte Genauigkeit und Wiederholbarkeit leicht kalibrieren. TOKYO ELECTRON Lithius bietet Stabilität und Zuverlässigkeit durch ein breites Spektrum an Temperatur- und Feuchtigkeitsbedingungen dank seines automatisierten Temperatur- und Feuchtigkeitskontrollwerkzeugs. Dies trägt dazu bei, dass die für die Bildgebung verwendeten Photoresists auch nach langen Belichtungszeiten ihre Eigenschaften behalten. Die Anlage ist zudem mit einer Sicherheitsfunktion ausgestattet, die den Belichtungsprozess automatisch beendet, wenn die Temperatur- und Feuchtigkeitswerte vorgegebene Schwellenwerte überschreiten. Darüber hinaus verfügt das Modell über einen Kameramodus, mit dem Benutzer den Photolackprozess einfach überwachen können. Diese Funktion liefert digitale Echtzeit-Bilddaten, mit denen Fehler oder Fehler während des Lithographieprozesses schnell erkannt werden können. Der Kameramodus kann auch verwendet werden, um die Belichtungsparameter für eine verbesserte Bildqualität einzustellen. Insgesamt ist Lithius eine zuverlässige Photoresist-Ausrüstung, die Funktionen zur Verbesserung der Lithographie-Prozessleistung bietet. Es verfügt über ein modernes optisches System für verbesserte Schichtauflösung und Stabilität, eine programmierbare Z-Servoeinheit für präzise Wafer-Positionierung, automatisierte Temperatur- und Feuchtigkeitsregelung für Stabilität und einen Kameramodus für digitale Bildgebung. Diese Eigenschaften und die verbesserte Prozessleistung machen TEL/TOKYO ELECTRON Lithius zu einer idealen Wahl für Halbleiterhersteller.
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