Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9111797 zu verkaufen
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ID: 9111797
CPL Chilling Hot Plate Process Stations
BASE ASSY FRONT, P/N: 5087-402532-13
BASE ASSY MID, P/N: 5087-401685-19
BASE ASSY BACK, P/N: 5087-401686-17
BASE(CPL)ASSY SUPPORT, P/N: 5085-408084-11
GUIDE(10) ASSY, P/N: 5085-404679-12
COVER(CPL) ASSY BACK, P/N: 5085-408086-13
BRACKET(DSW)ASSY, P/N: 5087-402531-13.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist ein hochmodernes Photoresist-Gerät. Photoresist ist ein lichtempfindliches Material, das bei der Herstellung von elektronischen Leiterplatten und Halbleiterbauelementen verwendet wird. Das Photoresist System besteht aus 4 primären Komponenten; der gepulste Excimerlaser, das Detektormodul, die Polarisatoroptik und die Waferstufe. Der gepulste Excimerlaser ist eine spezielle Einheit, die ultraviolettes Licht verwendet, um das gewünschte Muster auf den mit Photoresist beschichteten Wafer zu belichten. Das Laserlicht induziert eine chemische Veränderung des Photolacks, die die Reaktion des Photolacks auf die nachfolgende Verarbeitung bestimmt. Das Detektormodul besteht aus einem Prozessor und zwei Photodetektoren. Der Prozessor verarbeitet und interpretiert die vom Hostcomputer gesendeten Vektordaten, um die Vektorierrichtung und den Belichtungsbetrag zu bestimmen. Die beiden Fotosensoren messen die lineare Bewegung des Lasers über die Waferoberfläche und sorgen dafür, dass die gesamte Oberfläche des Wafers gleichmäßig belichtet wird. Die Polarisatoroptik ist eine Vorrichtung zur Steuerung der Richtung des Laserlichtstrahls. Die Optik enthält mehrere Linsen und Filter, die eingestellt werden können, um den Strahl auf das gewünschte Muster zu fokussieren. Dadurch wird sichergestellt, dass das Muster genau und mit der richtigen Intensität belichtet wird. Die Waferstufe ist eine Bewegungssteuerungsmaschine, mit der der Wafer genau unter dem Laser positioniert wird. Es ist mit Servomotoren und Encodern ausgestattet, um die XYZ-Positionierung des Wafers zu steuern. Die Bühne hat die Fähigkeit, den Wafer für verschiedene Orientierungen zu drehen und seine Orientierung kann schnell geändert werden, um die Belichtungszeit zu minimieren. TEL-Photoresist-Tool ist eines der fortschrittlichsten verfügbaren Systeme und wird zur Herstellung fortschrittlicher integrierter Schaltungen verwendet. Das Asset bietet hervorragende Geschwindigkeit und Genauigkeit für komplexe Muster mit überlegener Kantenauflösung. Es bietet eine ausgezeichnete Zuverlässigkeit und ist ideal für hohe Serienproduktion.
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