Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9111798 zu verkaufen
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ID: 9111798
CPHP General Chambers
RAME(HP)ASSY, P/N: 5087-402251-17
FRAME(COOL)ASSY, P/N: 5087-402252-17
CHAMBER SLIDE BASE ASSY, P/N: 5087-401726-14
BASE(COOL)ASSY,ARM SLIDE, P/N: 5087-402253-13
PIN(HP)ASSY, P/N: 5087-401371-12
PIN(COOL)ASSY, P/N: 5087-401367-13
SUPPORT ASSY(CPHP), P/N: 5085-412744-12
PLATE ASSY(CPHP-KCR), P/N: 5085-404671-11
CHAMBER ASSY, P/N: 5085-409714-15
COOL ARM ASSY, P/N: 5087-402970-18
BASE(E-CPHP) ASSY, P/N: 5087-401373-18
COVER(CHHP)ASSY, P/N: 5085-407305-14
COVER(CLHP)ASSY BACK, P/N: 5085-409715-12.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine Photoresist-Ausrüstung der nächsten Generation, die extrem genaue und zuverlässige Belichtungen von Photoresist-Mustern liefert. Dieses System verwendet digitale Bildgebung und die neuesten fortschrittlichen Lithographietechniken, um extrem scharfe, hochauflösende Bildgebungsfunktionen für fortschrittliche Halbleiterprozesse zu erzeugen. TEL Lithius ist auf die hohen Anforderungen der modernsten Halbleiterverarbeitung ausgelegt. Die Maschine verfügt über ein äußerst zuverlässiges, vollautomatisches Belichtungswerkzeug, das sowohl benutzerdefinierte Muster als auch native maschinengenerierte Muster akzeptieren kann. Der Anwender erhält eine Reihe von Belichtungsparametern (einschließlich Wellenlänge, Wellenlängengengenauigkeit und Belichtungszeit) und die Ergebnisse können auf der Grundlage der Anforderungen des Auftrags feinjustiert werden. Das Asset kann auch große Bilder schnell verarbeiten, mit einer Belichtungszeit von nur 0,3 Sekunden und einer Auflösung von bis zu 0,15 µm. Das Modell kann auch einfach in andere optische Systeme integriert werden, was es in Großserienanwendungen sehr nützlich macht. Das hochmoderne Beleuchtungsverfahren von TOKYO ELECTRON Lithius nutzt fortschrittliche Optik und programmierbare Beleuchtungsparameter wie Spotgröße, numerische Apertur und Polarisation. Diese Kombination von Funktionen ermöglicht optimale Fotolackbilder sowie enge, präzise Linien und eine qualitativ hochwertige, gleichmäßige Dichte im resultierenden Muster. Ein weiteres Hauptmerkmal der Ausrüstung ist die proprietäre PhotoStencil Software, die eine breite Palette von Musterzuordnungs- und Manipulationsmöglichkeiten bietet. Die Software ist auch sehr anpassbar und kann leicht auf verschiedene Anwendungen zugeschnitten werden. Die PhotoStencil Software sorgt auch für eine präzise Registrierung und Ausrichtung von Bildmustern und eine breite Palette von zusätzlichen Funktionen wie Autokorrektur, Mehrfachbelichtungssimulation und Echtzeit-Datenüberwachung. Das System enthält auch mehrere Softwarelösungen, die es Anwendern ermöglichen, ihren Belichtungsprozess unter verschiedenen Bedingungen zu simulieren, so dass sie den Prozess entsprechend den Bedürfnissen des Kunden besser vorhersagen und optimieren können. Insgesamt umfasst Lithius Photoresist eine Kombination aus Präzisionsoptik, optischer Integration, ergonomischem Design, fortschrittlichen Lithographietechniken und Softwaretechnologien, um extrem genaue und zuverlässige Bilder für Halbleiterbauelemente zu erzeugen. Die benutzerfreundlichen Funktionen, die einfache Einrichtung und die Fähigkeit, in verschiedenen Umgebungen zu arbeiten, machen die Maschine zu einer idealen Lösung für die moderne Halbleiterverarbeitung.
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