Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9111800 zu verkaufen

ID: 9111800
Front Opening Unified Pod BODY ASSY, P/N: 5085-413307-11 CLAMP ASSY, P/N: 5085-413308-11 DRIVE ASSY, P/N: 5085-413309-11 HEAD ASSY, P/N: 5085-413312-11 PANEL ASSY, P/N: 5085-413313-11 STAGE ASSY, P/N: 5085-413314-11 SENSOR ASSY PLASEMENT, P/N: 5085-413316-11 CABLE ASSY.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist ein von TEL (TOKYO ELECTRON) entwickeltes Photoresist-Gerät. Es handelt sich um ein Photolithographiesystem, das zur Strukturierung von Halbleitersubstraten mit ultrafeinen Eigenschaften entwickelt wurde. Es kombiniert einen synchronisierten hochauflösenden Laser (SHRL) und eine einzigartige optische Integrationstechnologie, um eine außergewöhnliche Photolackverarbeitung und Bildübertragung zu erreichen. Der SHRL ist eine Laserbeleuchtungsquelle mit simultanen Belichtungen und Funktionen, die Lichtintensität, Zyklusfrequenz und Belichtungszeit steuern. Dieser Laser ist in der Lage, Sub-10-nm-Muster zu produzieren - das kleinste verfügbare in jeder Lithographieeinheit. Die Maschine ist auch in der Lage, Photolithographie direkt zu schreiben, was die Notwendigkeit traditioneller Kalibrierungen und Maskenschichten überflüssig macht. Das Photoresist-Tool TEL Lithius verfügt auch über eine voll integrierte Optik-Technologie, die eine hochpräzise Bildgebung über große Bereiche mit hervorragendem Kontrast und Auflösung ermöglicht. Es verfügt über einen Regelkreis, der wiederholbare Ergebnisse bei jeder Exposition gewährleistet. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen bietet es eine höhere Materialausnutzung und verbesserte Fotolackbeständigkeit. Das Modell enthält auch Image Director-Software, die Übersetzung, Rotation und Skalierung von Musterebenen zur vollständigen Kontrolle des Entwurfsprozesses bietet. Weitere Merkmale sind die Autofokussierung, um eine genaue Fokussierung für jedes Muster und eine direkte Messung zu gewährleisten, um Parameter auf Prozessoptimierung zu überprüfen. Insgesamt ist das Photoresist-Gerät von TOKYO ELECTRON Lithius ein leistungsfähiges Photolithographie-Werkzeug, das in einem kleinen, einfach zu bedienenden System eingebaut ist. Es verfügt über fortschrittliche Lasertechnologie und hoch integrierte Optik, so dass Benutzer überlegene Musterleistung mit nanoskaligen Auflösungen und Funktionen erzielen können. Es ist die ideale Lösung für Anwendungen, die kleine Funktionsgrößen und präzise Bildgebung erfordern.
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