Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9112797 zu verkaufen

ID: 9112797
WCPL/TRS Water Controlled Chill Plate Process Stations Part Numbers: 5087-401690-18 BASE ASSY, MID 5087-401686-17 BASE ASSY, BACK 5087-401687-13 BASE (3P-CPL) ASSY 5085-408087-11 BASE (WCPL) SET, SUPPORT 5085-403233-11 BASE (WCPL) SET, SUPPORT 5085-404679-12 GUIDE (10) ASSY 5085-413028-11 GUIDE (11) ASSY 5085-409705-12 COVER (WCPL) SET 5085-409703-12 COVER (TRS) ASSY 5087-401691-11 PLATE (TRS) ASSY 5087-403214-11 PLATE (TRS) ASSY 5087-403592-14 CWH (HP) ASSY 5087-403596-11 PIN BASE (CWH) ASSY 5087-403633-13 CWH (HP200C) ASSY 5087-403634-11 PIN BASE (CWH200C) ASSY 5085-413143-11 PIN BASE (CWH200C) ASSY 5087-403641-12 CWH (HPB200C) ASSY 5087-403642-11 PIN BASE (CWHB200C) ASSY.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine Photoresist-Ausrüstung, die entwickelt wurde, um kostengünstige, hochauflösende Masken herzustellen. Dieses System verwendet speziell eine Kombination aus tiefer ultravioletter (DUV) Beleuchtung und automatisierter Bildverarbeitungstechnologie, um Masken zu produzieren, die präzise und hochauflösend sind. Grundlage der Einheit ist die Verwendung von Photoresists, die Materialschichten sind, die auf Licht reagieren. Photoresists ermöglichen es dem Benutzer, die Belichtung des Materials mit Licht genau zu steuern und so ein Mittel zum Aufbringen von Mustern auf eine Oberfläche bereitzustellen. Um die Genauigkeit zu gewährleisten, wird der Photolack in mehreren Schichten aufgebracht, wobei jede Schicht unterschiedliche Absorptionseigenschaften und Belichtungswerte aufweist. Das Licht wird von der DUV-Beleuchtungseinheit der Fotoresistmaschine erzeugt, die mit Lasern Muster auf die Photoresistschichten projiziert. Die Intensität des Lichts wird genau und präzise gesteuert, und der Photoresist absorbiert Licht proportional zu seinen Absorptionseigenschaften und Belichtungspegeln. Nach dem Aufbringen des Lichts wird der Photolack entwickelt, und ab diesem Zeitpunkt wandeln Verarbeitungsschritte die vorbereitete Photolackschicht in eine Maske mit dem vorgesehenen Design um. Die wichtigsten Vorteile der Verwendung von TEL Lithius Photoresist Tool sind seine Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Dieses Gut kann verwendet werden, um Masken mit sehr hohen Auflösungen zu produzieren, mit Funktionen so klein wie 10 Nanometer. Darüber hinaus trägt die automatisierte Bildverarbeitungstechnologie dazu bei, dass die erzeugten Muster präzise und wiederholbar sind. TOKYO ELECTRON Lithius Photoresist Modell produziert auch Masken, die kostengünstig sind. Seine Laser können verwendet werden, um mehrere Masken gleichzeitig zu erstellen, wodurch die Herstellungskosten reduziert werden. Darüber hinaus erzeugt die Anlage eine effiziente Ressourcennutzung mit automatisierten Prozessen mit minimalen Materialien und Energie. Insgesamt ist Lithius ein zuverlässiges und kostengünstiges Photolacksystem, das die Herstellung präziser und präziser Masken ermöglicht. Die Kombination aus DUV-Beleuchtung und automatisierter Bildverarbeitungstechnologie sorgt für konsistente Ergebnisse und effiziente Ressourcennutzung. Als solches eignet sich dieses Gerät gut für die Herstellung von hochauflösenden Masken für den Einsatz in verschiedenen Anwendungen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor