Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9185423 zu verkaufen

ID: 9185423
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2003
(2) Coater / (3) Developer systems, 12" Coaters: (8) Resist nozzles With (2) temperature controllers Touch filters for resist / Solvent Mass flow controller Developers: NLD Nozzles With (3) temperature controllers (3) PRD Nozzles Touch developer filter Thermo controller unit (TCU) inside track Single block track (4) Blocks interfaced / Wafer transfer robot arms: Carrier Process Stepper interface main Stepper interface sub (4) Cassette FOUP designs SECSI/II / HSMS / GEM Interface Interface: NIKON S308 (2) Adhesion process stations (ADH) (5) Chill plate process stations (CPL) Transfer chill plate (WCPL) (2) Low temperature hot plates (LHP) N2 Purge capability (6) Precision chilling hot plate process stations (CPHG) Wafer edge exposure system (WEE) Buffer cassette, 3"-6" Hard disk not included Sub components: Temperature / Humidity controller (2) Chemical cabinets AC Power box 2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für den bildgebenden Prozess bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Es ist ein fortschrittliches Werkzeug für die Erstellung von Schaltungsmustern mit einer extrem feinen Auflösung. Das System verwendet eine Kombination aus UV-Licht und Lösungsmitteln, um das Photolackmaterial in projizierten Bereichen einer Photomaske zu entfernen. Photomasken werden verwendet, um ein Konstruktionsmuster auf das Substrat zu legen und sind im Vergleich zu anderen Lithographietechniken extrem fein aufgelöst. Mit Photolack, einem auf das Substrat aufgebrachten lichtempfindlichen Material, wird das Muster auf den Wafer oder die Platte geätzt. Das Resistmaterial wird dann mit Lösungsmitteln chemisch vom Substrat entfernt, um das Muster aufzudecken. Die TEL Lithius-Einheit ermöglicht eine präzise Kontrolle des Resistbelichtungsprozesses. Es verfügt über eine geschlossene Schleifenmaschine, um genau zu erkennen, wann der Prozess abgeschlossen ist, und enthält ein fortschrittliches Steuerwerkzeug zur automatischen Anpassung an die Oberfläche des Substrats während des Resistbelichtungsprozesses. Der Vermögenswert bietet auch mehrere Vorteile. Es ist unglaublich schnell, mit einer Belichtungszeit von nur 2,6 Sekunden für einen Wafer in voller Länge. Es hat eine sehr geringe thermische Wirkung, so dass Halbleiterbauelemente keine negativen Auswirkungen aus dem Belichtungsprozess erfahren. Es ist auch für die Kompatibilität mit einer breiten Palette von Photolackmaterialien konzipiert, so dass das Modell für die Entwicklung von extrem auflösenden Mustern verwendet werden kann. Zusätzlich zu diesen Eigenschaften ist TOKYO ELECTRON Lithius Geräte hocheffizient. Es bietet einen geringen Strombedarf und einen hohen Durchsatz, der die Produktion vieler Geräte in kurzer Zeit ermöglicht. Es hat auch eine geringe Wartungskosten, da das System minimale Wartung erfordert und qualitativ hochwertige Ergebnisse erzielt. Lithius-Einheit ist eine ideale Wahl für die Herstellung von Halbleiterbauelementen auf Früh- und Fertigungsebene. Seine fortschrittliche Bildgebungstechnologie und seine breite Kompatibilität mit Photolackmaterialien machen es zu einer optimalen Wahl für die Entwicklung und Herstellung von hochmodernen Halbleiterbauelementen.
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