Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9218117 zu verkaufen
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ID: 9218117
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005-2006
Track systems, 12"
2005-2006 vintages.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine innovative Photolackausrüstung. Es ist ein umfassendes Werkzeugset, das effiziente Lithographieverfahren für die Herstellung von Halbleiterbauelementen ermöglicht. Photoresist-Systeme ermöglichen eine schnelle Prototypisierung und Entwicklung für verschiedene Arten von Schaltungen und Komponenten. TEL Lithius-System nutzt fortschrittliche chemisch-mechanische Planarisierungstechnologie. Diese Technologie schafft eine ebene und gleichmäßige Oberfläche auf dem Substrat. Dies wird erreicht, indem ein Schleifkissen verwendet wird, das langsam über das Substrat geführt und ständig von einem optischen Detektor überwacht wird, um etwaige Defekte oder Inkonsistenzen zu beseitigen. Nach dem Polieren des Substrats wird ein Photolack in einer dünnen gleichmäßigen Schicht auf die Oberfläche aufgebracht. Dadurch kann ein Muster in die Substratschicht geätzt werden. Anschließend wird mit einem speziellen Ätzverfahren jedes unerwünschte Material exakt von der Oberfläche entfernt. Das Ergebnis ist eine präzise strukturierte Substratschicht mit hoher Genauigkeit. Das Gerät TOKYO ELECTRON Lithius beinhaltet auch einen umfassenden Satz von bildgebenden und bildgebenden Analysewerkzeugen zur Unterstützung der Entwicklung von Halbleiterbauelementen. Diese Werkzeuge können verwendet werden, um Strukturierungsparameter wie Linienbreiten, Winkel, Overlay und Photolackdicke zu erhalten. Diese Informationen können dann zur Änderung oder Feinabstimmung des Musters verwendet werden, um sicherzustellen, dass eine präzise geätzte Komponente erzeugt wird. Für die verbesserte Maskenanordnung bietet Lithius auch eine umfangreiche Auswahl von Schrittanordnungsmodulen und Echtzeitquerschnittbildaufbereitungswerkzeugen. TEL/TOKYO ELECTRON Lithius-Maschine ist ein unschätzbares Werkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen und bietet präzise Musterfunktionen innerhalb enger Konstruktionsgenauigkeiten. Das Werkzeug eignet sich für den Einsatz bei der Herstellung neuester High-End-Halbleiterbauelemente wie Speicher- und Prozessorchips. Es bietet auch die Fähigkeit für Rapid Prototyping und Teilsystementwicklung.
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