Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9235183 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Lithius
ID: 9235183
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
System, 12" 2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine Photoresist-Ausrüstung, die von TEL Ltd, einem führenden Anbieter von Lithographie- und Fertigungsprodukten, entwickelt wurde. Dieses System soll bei der Herstellung, Prüfung und Bildgebung von mikroelektronischen Geräten, Trägern und Komponenten helfen. Die Einheit besteht aus einer Reihe von Komponenten, die in Verbindung mit einer Vielzahl von Ätzprozessen verwendet werden. Hauptbestandteil der Maschine ist TOKYO ELECTRON Revenant Photoresist (TERP), mit dem lichtempfindliches Material auf einem Siliziumsubstrat abgeschieden wird. Das TERP wurde mit einer hohen photolithographischen Genauigkeit entwickelt und bietet präzise Mikro- und Nanobildfunktionen. Der Photoresist wird dann ultraviolettem (UV) Licht ausgesetzt, das hilft, den Resist zu aktivieren und in einen absorptiven Film zu verwandeln, der den Abdruck komplizierter Mikro- und Nanomuster ermöglicht. Der Resist wird dann einer hohen Trocknungstemperatur ausgesetzt, die den Resist aushärtet, wodurch er ätzfest ist. Das Tool umfasst auch eine Vielzahl von Ätzwerkzeugen und -prozessen. Dazu gehören Gauß- und Glockenkurvenätzverfahren sowie Sputterätz- und reaktive Ionenätztechniken (RIE). Das Gaußätzverfahren beinhaltet das Aufbringen eines Dampfphasenätzmittels bei entsprechender Temperatur und Druck. Dabei wird der belichtete Resist mit einem kontrollierten Entwässerungsvorgang weggeätzt. Das Glockenkurvenätzverfahren ist ein alternatives Verfahren, das die Anwendung eines Sputterätzes beinhaltet und ein höheres Energie-Ionenbeschuss verwendet, um den Photoresist wegzuätzen. Der Sputterätzprozess verwendet ein Vakuumgut, um Metallatome auf das Substrat abzuscheiden, und der RIE-Prozess beendet den Ätzprozess, indem eine aggressive Quelle von Ionen verwendet wird, um die Muster in das Substrat wegzuätzen. Das Modell umfasst auch eine Vielzahl von Test- und Bildverarbeitungskomponenten. Dazu gehören robuste Wafer-Inspektions- und Fehlererkennungssysteme sowie fortgeschrittene optische Bildgebungstechniken für die vollständige Abbildung des mikroelektronischen Geräts. Dies alles ist für die Qualitätssicherung des Produkts notwendig und stellt sicher, dass es den höchsten Qualitätsstandards entspricht. Schließlich bietet TEL Lithius eine umfassende Photolithographie-Ausrüstung, die eine präzise Mikro- und Nanobildgebung für die Herstellung hochwertiger mikroelektronischer Geräte und Komponenten ermöglicht. Das System bietet eine zuverlässige und robuste bildgebende Lösung mit einer breiten Palette von Ätz- und Testfunktionen. Es ist eine perfekte Lösung für jede Organisation, die hochwertige mikroelektronische Komponenten und Produkte herstellen möchte.
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