Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9252496 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Lithius
ID: 9252496
Wafergröße: 12"
(2) Coater / (2) Developer system, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine Photoresist-Ausrüstung für direkte UV-Belichtung in Photolithographie-Anwendungen. Dieses System verwendet UV-LED-Quellen, um hochauflösende Belichtungen zu erzielen, und ermöglicht Belichtungszeiten im Mikrosekundenbereich, um eine hohe Durchsatzverarbeitung zu erreichen. Das Gerät verfügt auch über eine benutzerfreundliche Touch-Panel-Schnittstelle, die eine einfache Programmeinstellung und Überwachung der Photolithographie-Parameter ermöglicht. Die Photolackmaschine besteht aus Komponenten, die zusammenarbeiten, um Substrate für die Mikrofertigung vorzubereiten. Es verfügt über eine UV-Lampenplattform, ein hochauflösendes Schrittwerkzeug und einen UV-empfindlichen Resist. Zusätzlich verwendet der Vermögenswert ein schnelllaufendes, hochauflösendes Zoomobjektiv, um die Lichtquelle einzustellen. Die UV-LED-Lampe hat eine lange Lebensdauer und kann entsprechend der Anwendung gedimmt werden. Darüber hinaus kann die Lampe für Wartung und längere UV-LED-Übertragung gekühlt werden. Das Zoomobjektivmodell bietet beugungsbegrenzte Auflösung und eine breite Palette von Schritt- und Wiederholungskonfigurationen. Es verfügt auch über eine autofokussierende Ausrüstung, die das Licht während des Belichtungsprozesses auf das Substrat fokussiert hält. Die Präzision des Schrittsystems ist für die Mikrofabrikation unerlässlich. Dieses Gerät kann über die benutzerfreundliche Touch-Panel-Schnittstelle eingestellt und überwacht werden. Es bietet eine Reihe von Belichtungskonfigurationen, von Einzelaufnahmen bis zu Multibelichtungsserien. Zusätzlich dreht diese Maschine Substrate ultraschallförmig und ist in der Lage, Substrate bis zu 360mm Quadrat zu handhaben. Schließlich verwendet das Photolackwerkzeug einen chemisch verstärkten Positivtonresist. Dieser Resist ist auf UV-Lichtempfindlichkeit und Präzision in gewünschten Mustern ausgelegt. Chemisch verstärkt bedeutet, dass es eine Reihe von Belichtungsenergien aufgrund von Sekundärreaktionen standhalten kann, die seine Löslichkeit fördern. Diese Nebenreaktionen sind aber auch die Quelle unerwünschter Hinterschneidungen, die zu unerwünschten und unvorhersehbaren Mustern führen. Insgesamt kombiniert TEL Lithius photoresist asset Präzisionsschrittsteuerungen, UV-LED-Beleuchtung, ein fortschrittliches Zoomobjektivmodell und chemisch verstärkte Positivtöne, um eine effiziente Plattform für die hochauflösende Photolithographie-Verarbeitung zu bieten.
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