Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9274980 zu verkaufen
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ID: 9274980
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
(2) Coater / (5) Developer system, 12"
CANON FPA 5500 iZa included
2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die speziell entwickelt wurde, um extrem hohe Auflösungsfunktionen und Muster in einer Vielzahl von Anwendungen zu erzeugen. Das System besteht aus einem komplexen optischen Pfad sowie einer hochmodernen Lithographieeinheit und einem fortschrittlichen Spinner-Design. TEL Lithius-Einheit wurde entwickelt, um sehr hochauflösende Funktionen zu schaffen, ein Begriff, der oft als High-Aspect-Verhältnis bezeichnet wird. Dies geschieht durch die gleichzeitige Verwendung sowohl eines fokussierten Lasers als auch eines breiten einheitlichen Elektronenstrahls, um ein Muster mit sehr hoher Genauigkeit und mit höheren Geschwindigkeiten als herkömmliche Photoresistsysteme zu erzeugen. Die einzigartigen Bauelemente von TOKYO ELECTRON Lithius ermöglichen es dem Anwender, das Werkzeug projektbezogen anzupassen, um sicherzustellen, dass das Endprodukt von höchster Präzision ist. Lithius Asset eignet sich am besten für Funktionen mit hohem Seitenverhältnis und kann Funktionen von bis zu 20 Nanometern erzeugen. Es ist auch in der Lage, andere Merkmalsmuster wie Nanopillaren, Nanokavitäten und mikro-elektromechanische Systeme (MEMS) zu unterstützen. Das Modell ist zuverlässig und stabil, mit Wiederholbarkeit und Prozesskontrolle. Das Substratprogramm von TEL/TOKYO ELECTRON Lithius umfasst Silizium-Wafer, Glas, Polymer und Aluminiumoxid. Das System belichtet Substrate schnell mit einer breiten Palette modernster Werkzeuge, darunter ein Hochgeschwindigkeits-Scanner, optische Module und fortschrittliche Rechenwerkzeuge. Das Gerät umfasst einen Hochgeschwindigkeits-Vertikaltransport, um mit Prozesszykluszeiten Schritt zu halten. Darüber hinaus verfügt die Maschine über präzise Projektmanagement-Tools, die es Anwendern ermöglichen, Substratverarbeitung, Programmautomatisierung fernzusteuern und eine Vielzahl von Werkzeugverbesserungen und Prozesssteuerungsprogrammen anzubieten. Dieses erweiterte Asset verwendet eine geringere Photomaskengröße, um Funktionen zu erzeugen, die kleiner sind als das äquivalente konventionelle Photoresist-Modell. Die Maskengröße kann aufgrund der fortschrittlichen Optik im Gerät reduziert werden. Als fortschrittliches Photoresist-System ist TEL Lithius eine ideale Wahl für komplexe, nanofabrizierte Strukturen mit extrem hohen Seitenverhältnissen und kleinen Funktionsgrößen. Die Maschine ist zuverlässig und bietet eine exzellente Kontrolle über die Substratprozesse und ist somit ideal für ein breites Anwendungsspektrum, von der medizinischen Wissenschaft über die Elektronik bis hin zur Automobilindustrie. Das Tool enthält eine Vielzahl von anspruchsvollen Funktionen, die es zu einem der fortschrittlichsten Photoresist-Systeme auf dem Markt macht.
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