Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9275250 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Lithius
ID: 9275250
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
(5) Coater / (5) Developer system, 12" AT-850F 2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine spezialisierte Photoresist-Ausrüstung, die in einer Vielzahl von Industrien im Halbleiter- und integrierten Schaltkreisprozess (I/C) eingesetzt wird. Photoresist bezeichnet ein lichtempfindliches Material zur selektiven Entwicklung von Strukturen in elektronischen Bauteilen wie geätztem oder abgeschiedenem Metall. Photoresist ist ein wichtiger Schritt im lithographischen Prozess, mit dem die verschiedenen Schichten und Wege auf einem I/C-Chip erzeugt werden. TEL Lithius Photoresist-System verwendet eine Photomaske, die verwendet wird, um die Merkmale eines Halbleiterbauelements zu definieren. Die Einheit beginnt mit dem Aufbringen einer Beschichtung aus lichtempfindlichem Material, die als Photoresist bezeichnet wird. Die Fotomaske wird dann auf den Photolack gelegt und Licht verwendet, um die definierte Fläche in der Photomaske zu belichten. Die belichteten Bereiche härten oder verfestigen den Photolack, während die unbelichteten Bereiche löslich bleiben. Nach dem Entfernen des Lichts wird eine Entwicklerlösung auf die Oberfläche aufgebracht, um den belichteten Photolack zu entfernen und so das Muster der Photomaske auf dem Substrat zu erkennen. Die Photoresistmaschine TOKYO ELECTRON Lithius verfügt außerdem über ein Nassbearbeitungswerkzeug, mit dem die belichteten Muster geätzt und zusätzliche Materialien abgelegt werden können. Die Nassverfahren umfassen: Photolackstreifen, Lackstreifen, Resistasche, Nassätzen, Resiststreifen und Ätzen, Abscheiden und Überziehen. Das Asset bietet eine hohe Prozesssteuerung, die ein wiederholbares Ätzen und Abscheiden von Materialien auf der Oberfläche eines I/C-Chips ermöglicht. Lithius Photoresist-Modell bietet auch verbesserte Fertigungsausbeute, da es mögliche Fehler identifizieren und während der Nassbearbeitung entfernen kann. Das Gerät verwendet auch computergesteuerte Bildgebung, um den optimalen Ätz- und Abscheidungsprozess zu bestimmen. Dies hilft, die Anzahl der während des Herstellungsprozesses benötigten Zyklen zu minimieren, was wertvolle Zeit und Geld spart. Zusammenfassend ist TEL/TOKYO ELECTRON Lithius Photoresist System eine zuverlässige und effiziente Einheit innerhalb des I/C Herstellungsprozesses verwendet, um Materialien auf ihren jeweiligen Schichten zu entwickeln und abzuscheiden. Die Maschine bietet hohe Prozesskontrolle, höhere Ausbeute, reduzierte Zykluszeiten und verbesserte Fehlererkennung.
Es liegen noch keine Bewertungen vor