Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9286669 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist ein Photoresist-System zur Erstellung einer Photomaske aus einem computergestützten Design. Es ist eine digitalisierte Form der Photolithographie, der Prozess der Übertragung eines Bildes auf ein lichtempfindliches Material. Das einzigartige System von TEL ermöglicht es Anwendern, hochauflösende Photomasken aus Polygonen und Werkzeugmusterdaten mit überlegener Genauigkeit und wiederholbarer hoher Leistung zu erzeugen. Das Verfahren beginnt mit dem Polymerfotoresist und seiner entsprechenden Schichtmaske. Der Photolack wird über die gewünschte Oberfläche verteilt und dann mit Licht einer hochenergetischen Lichtquelle, wie einem Ultraviolettlaser, belichtet. Nach einer vorgegebenen Zeitspanne ist die Energie ausreichend vom Photoresist absorbiert worden, was zu einer photochemischen Reaktion führte, die ihr entsprechendes feinauflösendes Photoresistmuster bildete. Die Maske, die das gewünschte zu übertragende Muster enthält, wird auf der photoresistbeschichteten Oberfläche ausgerichtet und registriert. Der Bildübertragungsprozess wird geöffnet und das Licht aus dem Laser aktiviert die belichteten Teile im Fotolack. Es treten spezifische chemische Reaktionen auf, die gelöste Bereiche im lichtempfindlichen Lösungsmittel erzeugen, die dann eine Übertragung der Muster von der Maske auf den Photolack ermöglichen. Nachdem die Übertragung abgeschlossen ist, werden die gelösten Bereiche mit einer begrenzten Farbe gefüllt und bilden ein genaues Muster auf dem Fotolack. Danach werden die Komponenten der lichtempfindlichen Schicht selektiv abgewaschen, um das Muster zu reinigen. Die erzeugten Bilder mit der gewünschten Form werden dann in die richtige Größe und Form geschnitten. Schließlich ist die Fotomaske fertiggestellt und für eine Vielzahl von Anwendungen wie die Herstellung von integrierten Schaltungen, Sensorelementen, Steckverbindern und anderen Elementen einsatzbereit. TEL Lithius ist ein hervorragendes System zur Übertragung von Bildern in eine Fotomaske. Seine Fähigkeit, hochauflösende Muster und wiederholbare hohe Leistung zu schaffen, unterscheidet es von regelmäßiger Photolithographie. Da der Markt zunehmend qualitativ hochwertige Produkte fordert, ist auch die Nachfrage nach präzisen Bildübertragungen jeder Größe ideal für die komplizierte Photomaskenproduktion.