Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9296645 zu verkaufen
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ID: 9296645
Coater / Developer system
Career station block
Process block
Coat process station
Develop process station
Plate process station
Interface block.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine Hochleistungs-Photoresist-Anlage, die Photolithographieverfahren ermöglicht, die bei der Herstellung von Halbleitermikroschaltungen verwendet werden. Das System wurde entwickelt, um eine saubere Abscheidung von Photolack auf dem Substrat bereitzustellen, so dass eine präzise Strukturierung und Ätzung des gewünschten Schaltungsdesigns möglich ist. Es ist auch in der Lage, jede Kontamination während des Prozesses durch den Einsatz von chemischen Lösungsmittelspülbädern und Isopropylalkoholbürsten zu minimieren. Die Einheit besteht aus mehreren Komponenten, darunter einem Excimerlaser, einem Substrathalter, einer lichtempfindlichen Resistbeschichtungsmaschine und einer Schattenmaske. Mit dem Excimerlaser werden ultraviolette Lichtimpulse erzeugt, die durch die Schattenmaske (die das Schaltungsdesign enthält) zur Substratoberfläche übertragen werden. Die Lichtintensität ist einstellbar, um eine genaue Auflösung des Schaltungsdesigns zu ermöglichen. Der Substrathalter dient zur Aufrechterhaltung einer gleichmäßig ebenen Substratoberfläche, die eine präzise Beschichtung ermöglicht. Das photoempfindliche Resistbeschichtungswerkzeug wird verwendet, um den Photolack gleichmäßig auf dem Substrat abzuscheiden. Der Resist reagiert, wenn er ultraviolettem Licht ausgesetzt wird, und wird unlöslich. Dies ermöglicht die Strukturierung der gewünschten Schaltungsmerkmale. Die Isopropylalkoholbürste wird verwendet, um die Substratoberfläche zu waschen, um überschüssige, unlösliche Photolacke sowie verunreinigende Partikel zu entfernen. Zur weiteren Gewährleistung der Sauberkeit ist die Anlage mit chemischen Lösungsmittelspülbädern ausgestattet, die eine Endspülung ermöglichen, bevor das Substrat in seine nächste Produktionsphase überführt wird. Alle diese Komponenten machen TEL Lithius zu einem effektiven Photolackmodell, das hochauflösende Mikroschaltungen herstellen kann. Es ist ein unschätzbares Werkzeug bei der Herstellung fortschrittlicher mikroelektronischer Geräte.
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