Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9308715 zu verkaufen
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ID: 9308715
Wafergröße: 12"
(2) Coater / (3) Developer systems, 12"
Single block for NSR S308
(4) Blocks interfaced:
Carrier
Process
Stepper interface main
Stepper interface sub
(4) Wafer transfer robot arms:
Carrier
Process
Stepper interface main
Stepper interface sub
(4) Cassettes FOUP Design
SECSI/II, HSMS and GEM Interface required IUSC
Interface is to NSR S308
(2) Coaters (COT)
(4-8) Resist nozzles with temperature control per coater
One touch filter
For resist and solvent
Mass flow controller
(3) Developers (DEV)
NLD Nozzles with temperature control per cup
(3) PRD Nozzles
Developer
One touch developer filter
Thermo Controller Unit (TCU) Inside track
(2) Adhesion Process Stations (ADH)
(5) Chill Plate Process Stations (CPL)
Transfer Chill Plate (WCPL)
(2) Low Temperature Hot Plate (LHP)
N2 Purge capability
(6) Precision Chilling Hot Plate Process Stations (CPHG)
Wafer Edge Exposure system (WEE)
Interface block
Single pincette wafer transfer with centering guides
For standard wafer arm and interface panel to accommodate
Buffer cassette, 3"-6"
Subcomponents:
Temperature
Humidity controller
(2) Chemical cabinets
AC Power box.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius bietet eine fortschrittliche und zuverlässige lithographische Verarbeitungsausrüstung zur Entwicklung von Photoresist-Mustern. Photoresists sind Materialien, die in lithographischen Prozessen zur Herstellung von Mustern in Materialien wie Metallen, Kunststoffen, Keramik, Halbleitern und anderen verwendet werden. TEL Lithius bietet ein integriertes Verarbeitungssystem, mit dem Fotoresists auf einer Vielzahl von Materialien entwickelt werden können. Photoresists werden über Spin-Coating auf die Oberfläche eines Materials aufgebracht und dann mit Licht verschiedener Wellenlängen und Intensitäten belichtet, um den Photoresist selektiv zu entfernen oder zu härten. Das resultierende geätzte Muster wird in Abhängigkeit von der Lichtbelichtung und Kristallisation der Photoresists erzeugt. Photoresists können auch mit einer Photomaske, einem strukturierten lichtdurchlässigen Medium, oder einem programmierbaren computererzeugten Muster strukturiert werden. Diese Einheit wurde entwickelt, um eine breite Palette von Materialien wie Siliziumscheiben, Glasplatten, Polymere, Papier und Textilprodukte zu behandeln. Das belichtete Substrat wird dann mit einer Vielzahl von Lösungen entwickelt, die den belichteten Photolack mit hoher Präzision auf das Substrat entfernen oder härten. Das Ergebnis ist ein gemustertes Substrat mit genauen Merkmalen und hoher Oberflächenqualität. Diese Maschine verfügt über eine automatisierte Ausrichtung und einen einzigartigen Filmspreizmechanismus, der sicherstellt, dass die Photolacke genau und gleichmäßig auf das Substrat aufgebracht werden. Es verfügt auch über ein innovatives Prozesskammerwerkzeug mit einstellbarer Belichtung und konstanter Temperatur, um konsistente Ergebnisse zu erzielen. Die On-Board-Asset-Kontrollen ermöglichen auch die Einstellung einer Reihe von Parametern, einschließlich Belichtungszeiten, Wellenlänge des Lichts und Verschlusszeit, um die effektivsten Ergebnisse zu erzielen. Das Modell umfasst auch eine umfassende Überwachungsausrüstung, um wiederholbare Ergebnisse zu gewährleisten. Das Photoresist-System TOKYO ELECTRON Lithius ist eines der zuverlässigsten und fortschrittlichsten verfügbaren lithographischen Verarbeitungssysteme, das zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse liefert. Es wurde speziell entwickelt, um eine automatisierte Bearbeitung verschiedener Materialien mit Präzision und zuverlässigen Ergebnissen zu ermöglichen.
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